[发明专利]制作超微细图形的装置无效
| 申请号： | 01108757.9 | 申请日： | 2001-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN1406860A | 公开（公告）日： | 2003-04-02 |
| 发明（设计）人： | 石建平;陈旭南;罗先刚;高洪涛;陈献忠;李展 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B82B3/00 | 分类号： | B82B3/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 成都信博专利代理有限责任公司 | 代理人： | 张一红,王庆理 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明是一种用原子制作任意超微细图形的装置，由原子束发生器、真空室、通电线圈、激光束、计算全息编码片和基片等构成。它利用磁场、激光场使准直原子束冷却、减速，形成准单色德布罗意波；使准单色德布罗意波通过计算全息编码片孔产生衍射和干涉，在工件台上直接堆积制作出任意形状的超微细图形。该装置克服了现有技术的缺陷，可广泛应用于制作包含纳米图形的超微细三维图形、纳米材料和纳米器件等的研究和开发。 | ||
| 搜索关键词： | 制作 微细 图形 装置 | ||
【主权项】：
1、一种制作超微细图形的装置，包括原子束发生器(1)、真空室(9)、基片(14)和工件台(15)，其特征在于：真空室(9)内有通电线圈(4)、第一激光束(5)和第二激光束(7)、计算全息编码片(10)；原子束流(3)射入真空工作室(9)，通过通电线圈(4)产生的磁场、第一激光束(5)和第二激光束(7)交叉形成的磁光陷阱区(6)、以及磁光陷阱区(6)下面的计算全息编码片(10)，在工件台(15)的基片(14)上形成任意超微细图形(13)。
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