[发明专利]抗反射涂层之氢化无效
| 申请号： | 00817926.3 | 申请日： | 2000-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN1420943A | 公开（公告）日： | 2003-05-28 |
| 发明（设计）人： | F·E·伍达得 | 申请（专利权）人： | 南壁技术股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/00 | 分类号： | C23C14/00;C23C14/32;B32B17/00;B32B18/00;B32B3/00;B32B7/00;B32B7/02;B32B19/00;B32B9/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 周承泽 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 形成一种包括中折射率材料、高折射率材料、及低折射率材料之连续层的多层抗反射涂层。中折射率层经氢化，以将材料的折射率调整至低于1.99，及提高透射的清晰度。氢原子浓度为至少7％较佳，超过9％更佳，及超过18％最佳。此三层结合形成三层抗反射涂层，但可于具有更多或更少层数的抗反射涂层中使用氢化。在使用时，中折射率层为最靠近需要抗反射的基材。中折射率层为由氧化铟、氧化锡或氧化锌，或其中铟、锡或锌为主成份的合金的氧化物所形成较佳。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 涂层 氢化 | ||
【主权项】：
1.一种形成抗反射涂层的方法，包括下列步骤：提供具有第一表面的基材；形成最接近该第一表面的氢化第一层，包括选择该氢化第一层，使包括具有铟、锡及锌中至少一种的基本上透明的金属氧化物，还包括将氢故意引入至所述金属氧化物内，使所述氢化第一层具有低于1.99的折射率；在所述氢化第一层上形成高折射率第二层，该第二层基本上为透明；及在所述第二层上形成低折射率的第三层，该第三层基本上为透明。
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