[发明专利]恒温处理至少一种处理物体的装置和方法有效
| 申请号: | 00817505.5 | 申请日: | 2000-10-20 |
| 公开(公告)号: | CN1413361A | 公开(公告)日: | 2003-04-23 |
| 发明(设计)人: | V·普罗布斯特 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/324;H01L21/477;C21D9/00 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 郑立柱,张志醒 |
| 地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明涉及到借助于恒温处理单元(6)在至少一种处理气体(4)的确定的处理气氛(111)中恒温处理至少一种处理物体(3)的装置。恒温处理单元有通过处理物体(3)接受能量的至少一个能源(5),具有在处理气氛(111)中在恒温处理期间存放处理物体的具有恒温处理空间(16)的恒温处理容器(11),具有一个恒温处理舱(13),在其中将恒温处理容器(11)安排得与恒温处理舱(13)有一个距离(18),这样在恒温处理容器(11)和恒温处理舱(13)之间存在一个间隔(14),和具有一个装置(19)用于在间隔(14)中制造与处理气氛(111)不同的其他气体的其他气氛(141)。其他的气氛有一个压力梯度(2)。借助于装置和方法有可能在处理物体进行处理时使用毒性的和/或腐蚀性的处理气体。特别是因此可以制造太阳能电池和/或太阳能模块的薄膜黄铁矿吸收器。 | ||
| 搜索关键词: | 恒温 处理 至少 一种 物体 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.在至少一种处理气体的确定的气氛(111)下借助于一个恒温处理单元(6)恒温处理至少一个处理物体(3)的装置,具有-至少一个能源(5)用于通过处理物体(3)接受一个能量,-一个恒温处理容器(11)具有恒温处理空间(16)用于在恒温处理期间在处理气氛(111)下存放处理物体(3),-一个恒温处理舱(13),在其中将恒温处理容器(11)安排得与恒温处理舱(13)有一个距离(18),这样在恒温处理容器(11)和恒温处理舱(13)之间就存在着一个间隔(14),和-一个装置(19,19a)用于在间隔(14)中制造与处理气氛(111)不同的其他气体的其他气氛(141),在其中-其他的气氛有一个压力梯度(2)。
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H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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