[发明专利]使用配体交换耐蚀金属有机前体溶液的化学气相沉积过程的流出物的消除

摘要

用于消除通过CVD过程,例如,用于在衬底上形成钛酸锶钡(BST)薄膜的金属有机化学气相沉积过程(MOCVD)沉积多组分金属氧化物所产生的流出物的装置和方法,该CVD过程使用含有至少一种金属配位络合物和用于溶解该金属配位络合物的适当溶剂介质的金属源试剂液体溶液,所述的金属配位络合物包含在稳定络合物中与至少一个配体配位结合的金属。对流出物进行吸附处理,以除去流出物中的前体物和MOCVD过程的副产物。可以使用末端监测器(62),如石英微量天平监测器监测吸附处理装置中开始漏出的情况。

主权项

1.一种消除在使用相应的源试剂在衬底上沉积多组分金属氧化物的CVD过程中产生的流出物的方法，所述的方法包括使CVD过程所产生的流出物通过对流出物中的有机物和金属有机物具有吸附亲合力的吸附剂床。