[发明专利]新型的具有5,6取代嘧啶环的羧酸衍生物、其制备方法和作为内皮素受体拮抗药的用途

摘要

本发明涉及式(I)的化合物,其中该物质具有说明书中所述的含义。本发明还涉及所述物质的用途。

主权项

1.式I的化合物式中：R1代表四唑基或基团其中的R具有下列定义：a)基团OR7，其中R7代表：氢、碱金属阳离子、碱土金属阳离子、生理可接受的有机铵离子例如叔C1-4-烷基铵或铵离子；C3-8-环烷基、C1-8-烷基、CH2-苯基，它们可被一个或多个下列基团取代：卤素、硝基、氰基、C1-4-烷基、C1-4-卤代烷基、羟基、C1-4-烷氧基、巯基、C1-4-烷基硫、氨基、NH(C1-4-烷基)、N(C1-4-烷基)2；C3-6-链烯基-或C3-6-炔基，其中在该基团上可以带有1-5个卤素原子；此外，R7可以是苯基，其上可以带有1-5个卤素原子和/或1-3个下列基团：硝基、氰基、C1-4-烷基、C1-4-卤代烷基、羟基、C1-4-烷氧基、巯基、C1-4-烷基硫、氨基、NH(C1-4-烷基)、N(C1-4-烷基)2；b)通过一个氮原子连接的5元杂芳族化合物，例如吡咯基、吡唑基、咪唑基和三唑基，其上可以带有1-2个卤素原子，或1-2个C1-4-烷基或1-2个C1-4-烷氧基；c)基团其中k代表0、1和2的数值，p代表1、2、3和4的数值和R8代表C1-4烷基、C3-8-环烷基、C3-6-链烯基、C3-6-链炔基或苯基，它可被一个或多个例如1-3个下列基团取代；卤素、硝基、氰基、C1-4-烷基、C1-4-卤代烷基、羟基、C1-4-烷氧基、C1-4-烷基硫、巯基、氨基、NH(C1-4-烷基)、N(C1-4-烷基)2；d)基团其中R9代表；C1-4-烷基、C3-6链烯基、C3-6炔基、C3-6-环烷基，其中该基团可以带有一个C1-4-烷氧基-、C1-4-烷基硫-和/或苯基，如c)中所列的；苯基，可以被1-3个下列基团取代：卤素、硝基、氰基、C1-4-烷基、C1-4-卤代烷基、羟基、C1-4烷氧基、C1-4-烷基基、巯基、氨基、NH(C1-4-烷基)、N(C1-4-烷基)2R2代表羟基、NH2、NH(C1-4-烷基)、N(C1-4-烷基)2、C1-4-烷基、C2-4-链烯基、C2-4-炔基、C1-4-羟基烷基、C1-4-卤代烷基、C1-4-烷氧基、C1-4-卤代烷氧基或C1-4-烷基硫，或CR2与CR3一起形成5元或6元亚烷基环或亚链烯基环，该环可以被一个或两个C1-4-烷基取代并且其中的一个或多个亚甲基分别可以被氧、硫、-NH或-N(C1-4-烷基)取代；R3代表羟基、NH2、NH(C1-4-烷基)、N(C1-4-烷基)2、卤素、C1-4-烷基、C2-4-链烯基、C2-4-炔基、C3-6-链烯氧基、C1-4-烷基羰基、C1-4-烷氧基羰基、C1-4-羟基烷基、C1-4-卤代烷基、C1-4-烷氧基、C1-4-卤代烷氧基、-NH-O-C1-4-烷基、C1-4-烷基硫，或CR3如R2所示的一样与CR2一起形成5元或6元环；R4和R5(可以相同或不同)代表：苯基或萘基，该基团可以被一个或多个下列基团取代：卤素、硝基、氰基、羟基、C1-4-烷基、C1-4-卤代烷基、C1-4-烷氧基、C1-4-卤代烷氧基、苯氧基、C1-4-烷基硫、氨基、NH(C1-4-烷基)、N(C1-4-烷基)2；或苯基或萘基，该基团在邻位通过直接键合、亚甲基、亚乙基或亚乙烯基、氧或硫原子或SO2-、NH-或N-烷基彼此连接；或C3-7-环烷基；R6代表氢。C1-8烷基、C3-6链烯基、C3-6-炔基或C3-8环烷基，其中该基团分别可以被下列基团一次或多次取代：羟基、巯基、羧基、卤素、硝基、氰基、C1-4-烷氧基、C3-6-链烯氧基、C3-6-炔氧基、C1-4-烷基基、C1-4-卤代烷氧基、C1-4-烷基羰基、C1-4-烷氧基羰基、(C1-4-烷基)NH羰基、(C1-4-烷基)2N羰基、C3-8-烷基羰基烷基、氨基、NH(C1-4-烷基)、N(C1-4-烷基)2、苯氧基或苯基，其中所述的芳基可以被一次或多次取代；苯基或萘基，该基团可以被一个或多个下列基团取代：卤素、硝基、氰基、羟基、氨基、C1-4-烷基、C1-4-卤代烷基、C1-4-烷氧基、C1-4-卤代烷氧基、苯氧基、C1-4-烷基硫、NH(C1-4-烷基)、N(C1-4-烷基)2或二氧亚甲基或二氧亚乙基；5或6元的杂芳族化合物，含有1-3个氮原子和/或一个硫或氧原子，它们可带有1-4个卤素原子和/或1-2个下列基团：C1-4-烷基、C1-4-卤代烷基、C1-4-烷氧基、C1-4-卤代烷氧基、C1-4-烷基硫、苯基、苯氧基或苯基羰基，其中苯基可以带有1-5个卤素原子和/或1-3个下列基团：C1-4-烷基、C1-4-卤代烷基、C1-4-烷氧基、C1-4-卤代烷氧基和/或C1-4-烷基硫；Z代表硫或氧以及生理可接受的盐，互变异构体形式和对映体纯以及非对映体纯的形式。