[发明专利]用于收集和会聚电磁辐射的光学系统无效

专利信息
申请号: 00809723.2 申请日: 2000-06-28
公开(公告)号: CN1160527C 公开(公告)日: 2004-08-04
发明(设计)人: 肯尼斯·K·利 申请(专利权)人: 考金特光学技术公司
主分类号: F21V7/00 分类号: F21V7/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王敬波
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 一种收集和会聚光学系统包括准直反射器(30)和聚焦反射器(40)。该准直反射器(30)包括具有焦点(36)和光轴(38)的回转抛物面的一部分。聚焦反射器(40)包括具有焦点(46)和光轴(48)的回转抛物面的一部分。位于准直反射器(30)的焦点(36)处的电磁辐射源(20)产生准直辐射光束。聚焦反射器(40)被放置为使其接收该准直光束并将其聚焦到位于该聚焦反射器(40)的焦点(46)处的目标上。
搜索关键词: 用于 收集 会聚 电磁辐射 光学系统
【主权项】:
1、一种光学装置,包括:电磁辐射源;待被由所述源发射的至少一部分电磁辐射照射的目标;准直反射器,其具有一光轴和在所述光轴上的焦点,所述源位于紧邻所述准直反射器的所述焦点的位置,以产生从所述准直反射器反射的沿基本上平行于所述光轴的方向的准直辐射射线;和聚焦反射器,包括一回转抛物面的至少一部分,所述聚焦反射器具有一光轴和在所述光轴上的焦点,所述目标位于紧邻所述聚焦反射器的所述焦点的位置,所述聚焦反射器关于所述准直反射器定位和定向,使得由所述聚焦反射器反射从所述准直反射器反射的准直辐射射线并将该射线基本上聚焦到所述目标上,其中,该准直反射器和聚焦反射器构成一准直/聚焦反射器对,该准直/聚焦反射器对可以是:(a)一对反射器,该对反射器中的每个反射器包括一基本上为回转抛物面的至少一部分,且具有大约相同的尺寸和形状,准直反射器和聚焦反射器的大小和光学取向彼此对应,使得由所述准直反射器的表面部分反射的每个辐射射线都基本上被所述聚焦反射器的相应的表面部分反射到所述目标上,以便基本上实现在源和聚焦到所述目标上的图象之间的单位放大率,或(b)一对反射器,包括准直和聚焦反射器的椭球面/双曲面对,该椭球面/双曲面对的准直和聚焦反射器中的一个基本上为椭球面形状,而该准直和聚焦反射器的另一个基本上为相应的双曲面形状,并且该椭球面/双曲面对的每个反射器所具有的尺寸和光学取向彼此对应,使得由所述准直反射器的表面部分反射的每个辐射射线基本上都被所述聚焦反射器对应的表面部分反射到所述目标上,以便实现在源和聚焦到所述目标上的图象之间的从大约0.5到大约5的近似单位放大率。
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