[发明专利]有机抗反射涂料聚合物和其制备方法无效
| 申请号： | 00137447.8 | 申请日： | 2000-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN1300790A | 公开（公告）日： | 2001-06-27 |
| 发明（设计）人： | 洪圣恩;郑旼镐;白基镐 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | C08F220/10 | 分类号： | C08F220/10;C09D133/08;C09D5/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种抗反射涂料聚合物,包含该聚合物的抗反射涂料(ARC)组合物和使用该种组合物的方法。本发明的抗反射涂料聚合物特别适用于使用ArF(193nm)激光作为光源的在超微平版印刷方法中。本发明的ARC降低或阻止光的背反射和衍射和/或反射光造成的临界尺寸变化的问题。本发明的ARC也明显地降低或消除了驻波效应和反射刻痕。由此,使用本发明的ARC形成了适用于制备1G和4GDRAM半导体器件的稳定的超细图案。本发明的ARC明显地改进了此种半导体器件的产率。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 反射 涂料 聚合物 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、具有下列通式的聚合物：其中，Ra、Rb、Rc、Rd和Re均独立地为氢或C1-C6烷基；R1-R4独立地是氢、选择性地取代或未取代的C1-C5烷基，或选择性地取代的烷氧基烷基；w、x、y和z均独立地为0.1-0.9之间的摩尔分数；且l,m,n和p均独立地为1-3的整数。
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