[发明专利]半导体制造系统无效
| 申请号： | 00128791.5 | 申请日： | 1996-07-16 |
| 公开（公告）号： | CN1148250C | 公开（公告）日： | 2004-05-05 |
| 发明（设计）人： | Y·E·李;J·E·帕加尼希;D·瓦萨罗;G·K·福莱明格 | 申请（专利权）人： | 液体空气乔治洛德方法利用和研究有限公司 |
| 主分类号： | B01D53/22 | 分类号： | B01D53/22;B01D71/00;H01L21/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 郭建新 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 一种半导体制造系统，其特征为：a)至少一台适于接受过氟化合物气体、载气及类似物的反应器室、此外有一与反应器室相连接的反应器废气管道；b)至少一个具有进料侧和透过侧的玻璃态聚合物膜分离单元，上述的膜至少对一种载气是可渗透的而至少对一种过氟化合物气体是基本上不可渗透的；所说的膜单元通过反应器废气管道与上述的反应器室相连接，该膜单元设有一透过物排放管道和一不渗透物管道；和c)用于将来自上述膜单元的所说的不渗透物流的至少一部分循环返回至少一个反应器室的装置。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 制造 系统 | ||
【主权项】：
1.一种半导体制造系统，其特征为：a)至少一台适于接受过氟化合物气体、载气及类似物的反应器室，该反应器室有一与其相连接的反应器废气管道；b)至少一个具有进料侧和透过侧的玻璃态聚合物膜分离单元，上述的膜至少对一种载气是可渗透的而至少对一种过氟化合物气体是基本上不可渗透的；所说的膜单元通过反应器废气管道与上述的反应器室相连接，该膜单元设有一透过物排放管道和一不渗透物管道；和c)用于将来自上述膜单元的所说的不渗透物流的至少一部分循环返回至少一个反应器室的装置。
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