[发明专利]在集成电路生产中清洗光刻胶的组合物无效
| 申请号： | 00121756.9 | 申请日： | 2000-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN1130454C | 公开（公告）日： | 2003-12-10 |
| 发明（设计）人： | J·－P·拉利尔 | 申请（专利权）人： | 埃勒夫阿托化学有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/32 | 分类号： | C11D7/32;H05K3/26 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 钟守期 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 为了清洗光刻胶，本发明提出使用二甲亚砜（DMSO）或N-甲基吡咯烷酮（NMP）和3-甲氧基丙胺（MOPA）的混合物。有利地，往该混合物添加少量水和腐蚀抑制剂，如甲苯基三唑酸钠。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 生产 清洗 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1、清洗光刻胶的组合物，其特征在于该组合物含有以质量计30-95％二甲亚砜(DMSO)或N-甲基吡咯烷酮(NMP)，和70-5％3-甲氧基丙胺(MOPA)。
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