[发明专利]有机电致发光玻板的清洗方法和装置

摘要

本发明涉及一种有机电致发光玻板的清洗方法，首先将被清洗的玻板置于压力为1×10-3Pa的真空腔内，通入纯氧气流，使环境压力维持在8×10-3Pa～3×10-2Pa；用离子束以30°～60°轰击玻板，轰击时使束流密度控制在1uA/cm2～10mA/cm2，轰击时离子能量为0.5eV～200eV，作用时间为5秒～60秒，即完成清洗过程。本发明装置为一真空腔，被清洗玻片置于真空腔内上部的支架上，真空腔下部的一侧为离子源，离子源位置使产生的离子束与玻片表面成30°～60°角，离子源与样品之间设有挡板。本方法和装置，降低了被清洗玻片的表面粗糙度和表面污染物的含量，不会对玻片产生腐蚀，且制备成本低。

主权项

1、一种有机电致发光玻板的清洗方法，其特征在于，该方法包括以下各步骤：a)将被清洗的玻板置于压力为1×10-3Pa的真空腔内，通入纯氧气流，使环境压力维持在8×10-3Pa～3×10-2Pa；b)用离子束以一定角度轰击玻板，轰击的角度为30°～60°，轰击时使束流密度控制在1uA/cm2～10mA/cm2的范围，轰击时离子能量为0.5eV～200eV，作用时间为5秒～60秒，即完成清洗过程。