[发明专利]激光热处理用光学系统和激光热处理装置有效

专利信息
申请号: 00118744.9 申请日: 2000-06-23
公开(公告)号: CN1287381A 公开(公告)日: 2001-03-14
发明(设计)人: 冈本达树;小川哲也;古田啟介;时冈秀忠;笹川智宏;西前顺一;井上満悍;佐藤行雄 申请(专利权)人: 三菱电机株式会社
主分类号: H01L21/324 分类号: H01L21/324;C30B33/02
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 杜日新
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在激光热处理方法中,提供控制形成高性能薄膜用的激光照射剖面的光学系统。在向形成于基板上的膜上照射长方形束的光学系统中,通过用强度分布成形装置使长度方向的强度分布均匀,短边方向保持振荡激光的定向性等向的结构,能在振荡激光性质限制的界限内进行聚光,在基板上的膜上得到最大限度的强度梯度。因此,可在基板上的膜上形成陡峻的温度分布,其结果,可形成高性能薄膜。
搜索关键词: 激光 热处理 用光 系统 装置
【主权项】:
1.一种激光热处理用光学系统,用于通过激光照射热处理基板上形成的膜材料,其特征是具备:形成激光振荡器发射的激光束的剖面强度分布的强度分布成形装置,和在基板上的膜材料上形成长方形束形状的束形状成形装置,强度分布成形装置,将同激光束的光轴垂直的剖面内的y方向的激光束的强度分布均匀,且在剖面内与该y方向正交的x方向的激光束的强度分布维持在激光振荡器发射的激光束的强度分布;束形状成形装置,缩小或扩大由强度分布成形装置发射的激光束的x方向和/或y方向的束长度,将膜材料表面上的激光束作成x方向狭窄y方向伸长的长方形。
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