[发明专利]一种高强度磁盘基板用微晶玻璃及其制造方法有效
| 申请号： | 00114568.1 | 申请日： | 2000-05-16 |
| 公开（公告）号： | CN1125789C | 公开（公告）日： | 2003-10-29 |
| 发明（设计）人： | 彭波;黄少林;詹祖盛;曹幼鸣 | 申请（专利权）人： | 湖北新华光信息材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C10/12 | 分类号： | C03C10/12;C03B32/02;G11B5/73 |
| 代理公司： | 襄樊崇科专利事务所 | 代理人： | 严崇姚 |
| 地址： | 441003*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于一种微晶玻璃材料及其制造方法。主要是提供一种磁盘基板材料。其主要特征是组分按重量百分比是：SiO2：65～80、Al2O3：0.5～5.0、Li2O：13～19、P2O5：1～7、Y2O3：0.5～10、Sb2O3/AS2O3：0.2～2，熔制温度1300～1370℃，澄清温度1350～1450℃，成核温度460～560℃，保温时间1～10H，晶化温度580～750℃，保温时间0.5～10H，主晶相Li2O·2SiO2，晶粒0.1～1μm，抗弯强度230～360MPa。研磨后表面粗糙度达到10以下。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 强度 磁盘 基板用微晶 玻璃 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种高强度磁盘基板用微晶玻璃，其特征是：该微晶玻璃为Li2O-SiO2-P2O5-Y2O3系统微晶玻璃，其基础玻璃组分范围按氧化物重量百分比计含有：SiO2：65.0～80.0、Al2O3：0.5～5.0、Li2O：13.0～19.0、P2O5：1.0～7.0、Y2O3：0.5～10.0、Sb2O3/As2O3：0.2～2.0，主晶相为Li2O·2SiO2，热处理后晶粒为0.1～1.0μm的球形或球形团聚体晶粒，抗弯强度为230～360MPa，经通常磁盘基板玻璃的冷加工工艺加工后其表面粗糙度小于10A。
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