[发明专利]静态随机存取存储器单元及其制造工艺无效

专利信息
申请号: 00101125.1 申请日: 2000-01-19
公开(公告)号: CN1261207A 公开(公告)日: 2000-07-26
发明(设计)人: A·O·阿丹;小山润;山崎舜平 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所;夏普公司
主分类号: H01L27/11 分类号: H01L27/11;H01L21/8244;G11C11/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 卢新华,谭明胜
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种SRAM单元,它包含至少二个驱动晶体管和二个传送晶体管以及二个各由TFT组成且通过层间绝缘膜排列在这些晶体管上的负载晶体管,此负载晶体管的有源区包含非晶硅结晶能力由于采用催化元素的固相生长技术而得以改进了的硅膜以及用来防止催化元素扩散进入排列在层间绝缘膜与负载晶体管之间的驱动晶体管和传送晶体管的势垒层。
搜索关键词: 静态 随机存取存储器 单元 及其 制造 工艺
【主权项】:
1.一种SRAM单元,它包含至少二个驱动晶体管和至少二个传送晶体管以及至少二个各由TFT组成且通过层间绝缘膜排列在所述驱动和传送晶体管上的负载晶体管,此负载晶体管的有源区包含非晶硅结晶能力由于采用催化元素的固相生长技术而得以改进的硅膜以及用来防止催化元素扩散进入排列在层间绝缘膜与负载晶体管之间的驱动晶体管和传送晶体管的势垒层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所;夏普公司,未经株式会社半导体能源研究所;夏普公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/00101125.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top