[发明专利]金属茂基-酞青染料无效

专利信息
申请号: 99809479.X 申请日: 1999-07-29
公开(公告)号: CN1312816A 公开(公告)日: 2001-09-12
发明(设计)人: H·沃莱布;A·沃莱布;B·施米德哈特尔;J·-L·布德里 申请(专利权)人: 西巴特殊化学品控股有限公司
主分类号: C07F17/00 分类号: C07F17/00;C07F17/02;B41M5/26;G11B7/24;C09B47/24
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 张元忠,王其灏
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 金属 染料
【说明书】:

发明涉及新颖的金属茂基-酞菁染料、其制备方法和应用。

本发明属于可书写记录介质的资料的光记录领域,所说的资料是通过在已书写与未书写位置上染料的不同的光学性质而被记录的。相关的记录介质是已知的,例如,被称为“W0RM”体系(一次书写可读多次),且进一步又分为例如“CD-R”和“DVD-R”。

在WORM体系中应用吸收近红外光范围(NIR范围)辐照的染料来记录资料特别被M.Emmelius介绍于Angewandte Chemie,No.11,第1475-1502页(1989)中。通过用激光辐照这样的记录材料有可能达到对记录资料所需要的吸收率通过物理变化(例如通过升华或扩散作用)或通过化学变化(染料的光致变色、异构化或热分解作用)发生二进制式的变化。

取代的酞菁染料是一类用于这样WORM体系的重要染料,因为当被相应地取代时它们在700nm-90nm具有高的NIR吸收率,且这取决于通常存在的中央原子。

针对被用作记录层的最严格要求是,例如高折射指数、高初始反射率、窄的固态吸收带、在不同脉冲持续时间下的书写宽度均匀性、在日光下和在对强激光辐照(记入)的高灵敏度相关的弱激光辐照(读出)下的高光稳定性、低噪声、高分辨力,和最重要的是在最佳书写操作时超过理想值的非常小的统计pits的抖动。

由于记录层一般是由溶液通过旋转涂而敷施的,因此染料还应该易于溶解在惯用的溶剂中,特别是EP-A511598中所述的溶剂中(不管是极性还是非极性溶剂)。

含有至少一个作为取代基的二茂铁单元的酞菁化合物是已知的,参见J.Organomet.Chem.468(1-2)(1994),例如,205-212页介绍了1,1'',1'''',1''''''-(29H,31H-酞菁-2,9,16,23-四基)四-二茂铁;Quin.Chem.Lett.4(4)(1993)第339-342页介绍了[1-(11-二茂铁基十一基)-1’-[4-[4-[[9,16,23-三(2,2,-二甲基丙氧基)-29H,31H-酞菁-2-基]氧]苯氧基]丁基]-4,4’-联吡啶鎓合(2-)-N29,N30,N31,N32]-二溴化锌;New J.Chem.21(2)(1997)267-271介绍了1,'1''-[[9,23-双(十二基硫代)-29H,31H-酞菁-2,16-二基]二(次氮基次甲基)联二茂铁;和J.Organomet.Chem.541(1-2)(1997)441-443介绍了[Cp(dppe)Fe-CN-MnPc]2O的合成(而dppe=1,2-乙烷二基双(联苯基膦);Cp=环戊二烯基;Pc=酞菁)。

J.Chem.Soc.,Chem.Commun.1995,1715-1716介绍了液晶二茂铁-酞菁的制备,二茂铁羰基氯化物与羟基取代的和不含金属的酞菁反应而生成相应的酯化合物。

Inorg.Chem.37(1998)411-417介绍双(二茂铁羧基合)-(酞菁合)硅,二茂铁单元被连接到中央原子。

WO-A9723354介绍一种基于酞菁的光记录材料,它含有作为取代基的特别是二茂铁单元,所说的二茂铁单元被连接到中央原子。

使用CD-R作为计算机数据的归档与备份介质日渐要求更快的书写速度。反之,使用作为声频介质要求较慢(1x)的速度。因此,对于这样的宽带行为(现时为1x-8x)来说记录层必须被连续地优化,这对被使用的记录层提出不寻常的高要求。现已知道,含有酞菁染料的记录层对高速(2x-6x)显示非常好的记录值,但是就pits和lands的与范数中的长度偏差,和还有抖动而言对1x的低速是不合适的。抖动实际上应被认为是由于pit或标记栏太短或太长的结果在信号变化的时间误差。就CD-R而言,例如pits的长度能在3T-11T(1T=231.4ns)之间变化。如果,例如,长度为3T的pit甚至在边上也显得太短或过长,于是这可能导致增加BLER(=块误差率,指出CD上的物理误差数),并由此而降低质量。误差率(BLER)应少于220/秒。

现已提出不少的建议解决在使用酞菁染料所说的难题;作出特别的努力是降低其分解温度,其分解温度高于其他类染料、尤其是花青染料。

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