[发明专利]锡基复合镀层的制备方法无效
| 申请号: | 88106559.5 | 申请日: | 1988-09-28 |
| 公开(公告)号: | CN1008749B | 公开(公告)日: | 1990-07-11 |
| 发明(设计)人: | 唐致远;郭鹤桐 | 申请(专利权)人: | 天津大学 |
| 主分类号: | C25D15/00 | 分类号: | C25D15/00;C25D15/02 |
| 代理公司: | 天津大学专利代理事务所 | 代理人: | 江镇华 |
| 地址: | 天津市*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 复合 镀层 制备 方法 | ||
本发明是关于电镀的方法,更具体地说,是关于锡基复合镀层电镀的方法。
近年来,随着电子工业的迅速发展,为了改善电子元器件的可焊性,并节约昂贵的金、银等金属,人们试图在电子元器件的引线上镀上可焊性良好的锡。中国出版的《电镀与环保》杂志1982年第2期上的“酸性光亮镀锡新工艺”一文公开了一种酸性光亮镀锡的方法,该方法采用的电镀液的配方是:
硫酸亚锡(分析纯) 70克/升
硫酸(分析纯) 160克/升
SS-820(配缸光亮剂) 15毫升/升(浙江黄岩萤光化学厂生产)
SS-821(添加光亮剂) 1.5毫升/升(浙江黄岩萤光化学厂生产)
使用该配方的镀液进行电镀,在电子元器件的引线上可获得光亮的镀层,不足之处是,镀层的可焊性能不稳定,经过一、二个月之后镀层变黑,可焊性能变差。
本发明的目的是克服上述缺点,使镀层具有良好的可焊性能,而且稳定性好,能在较长时间内保持光亮和良好的可焊性。
本发明制备光亮锡镀层的方法是,使用下述组分的电镀液:
硫酸亚锡(分析纯) 30-70克/升
硫酸(分析纯) 80-160克/升
SS-821(配缸光亮剂) 15毫升/升
SS-821(添加光亮剂) 1.5毫升/升
在上述镀液中加入比例为2∶1的氧化铝和氮化硼颗粒的混合物0.2-5.5克/升,所述的氧化铝和氮化硼颗粒的直径小于5微米。
上述陶瓷微粉也可以是氧化铝、氮化硼之中的任一种,当然,也可以是其他的陶瓷微粉,例如氧化铝、碳化硅等。
如果使用的氧化铝和氮化硼微粉是工业纯的话,则在加入镀液前进行适当处理,效果更佳。其处理步骤是:(a)将上述微粉按1∶2-5的比例加入蒸馏水,放在球磨机内研磨4-8小时;(b)将上述微粉液浆放入浓度为1-5M的硫酸中,加热至80-100℃,保温1-3小时,并不断搅动;(c)冷却上述混合物,然后过滤,并用蒸馏水清洗,直至清洗水溶液的PH值到6-7为止;(d)将上述陶瓷微粉放入镀液中,并进行搅拌,使其均匀。
本发明的特点是,在现有工艺的电镀中加入比例为2∶1的氧化铝和氮化硼。实践表明,采用掺有上述微粉的电镀液所镀出的镀层不仅光亮、耐蚀性好,而且可焊性能良好。
下面通过实例,可对本发明作进一步的了解。其中例1为现有技术,例2-例4为对比实例,例5为本发明的内容。
例1
配方与工艺如下:
硫酸亚锡(分析纯) 40克/升
硫酸(分析纯) 100克/升
SS-820(配缸光亮剂) 15毫升/升
SS-821(添加光亮剂) 1.5毫升/升
温度 室温
时间 30分钟
电流密度 4安培/分米2
转速 30转/分
阳极与阴极面积比 2∶1
例2
在例1的镀液中加入分析纯的氧化铝微粉1克/升和氮化硼微粉2克/升(颗粒直径均小于5微米),其他的工艺条件与例1相同。
例3
在例1的镀液中加入分析纯的氧化铝微粉5克/升和氮化硼0.5克/升(颗粒直径均小于5微米),其他的工艺条件与例1相同。
例4
在例1的镀液中加入分析纯的氧化铝微粉0.1克/升和氮化硼微粉0.1克/升(颗粒直径均小于5微米),其他的工艺条件与例1相同。
例5
在例1的镀液中加入分析纯的氧化铝微粉1克/升和氮化硼微粉0.5克/升(颗粒直径均小于5微米),其他的工艺条件与例1相同。
上述各实施例镀出的锡镀层(以直径0.5毫米的引线为例)的主要性能在下列表中示出。从表中可以看出,采用本发明的方法制备的锡镀层与现有技术相比有如下优点:镀层的可焊性能(润湿力)好、零交时间短、镀层硬度高、孔隙率低。此外,镀层光亮度好、稳定性强,镀层在空气中存放半年后仍然十分光亮,其良好的可焊性未发生明显变化。
不同配方制备的锡基镀层性能对比表
测试项目
实施例
润湿力 零交时间 硬度(Hv) 电阻率 孔隙率
编号 (达因) (秒) 千克/毫米2(欧姆·米) (个/厘米2)
例1 -22 2.08 26.5 2.7×10-81.5
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