[发明专利]淀积碳的微波增强化学气相淀积方法无效

专利信息
申请号: 88101061.8 申请日: 1988-02-24
公开(公告)号: CN1036078C 公开(公告)日: 1997-10-08
发明(设计)人: 山崎舜平 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: C23C16/26 分类号: C23C16/26;C23C16/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 肖掬昌,周其裕
地址: 日本神奈*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 淀积碳 微波 增强 化学 气相淀积 方法
【权利要求书】:

1.一种形成碳膜的等离子体化学汽相淀积方法,包括下列步骤:

将含有碳的反应气体引进一反应室;

将微波输入所说反应室;

在所说反应室中建立一磁场,使反应室中预定位置的磁场强度可以产生电子回旋共振;

将所说反应气体转变为一等离子体;

在反应室中将衬底支承在所说位置附近;以及

在所说衬底上淀积碳质薄层,

其特征在于,该反应室里的压强为13.3帕至39900帕。

2.根据权利要求1的方法,其特征在于,所说磁质薄层为金刚石或金刚石状碳。

3.根据权利要求1的方法,其特征在于,所说衬底置放在满足电子回旋共振条件的磁场强度的±21.2%中。

4.根据权利要求1的方法,其特征在于,微波频率为2.45千兆赫,而在所说衬底处磁场强度为875±185高斯。

5.根据权利要求1的方法,其特征在于,在该衬底处的磁场强度单调地随微波的传播方向减小。

6.根据权利要求1的方法,其特征在于,它还包括一种添加到所说反应气体的含氮和/或硼的气体。

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