[其他]正交的磁性存贮介质无效
| 申请号： | 87101975 | 申请日： | 1987-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN87101975A | 公开（公告）日： | 1987-10-21 |
| 发明（设计）人： | 那须昌吾;斋木幸治 | 申请（专利权）人： | 钟渊化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/85 | 分类号： | G11B5/85 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利代理部 | 代理人： | 罗英铭,陈季壮 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 正交 磁性 存贮 介质 | ||
【权利要求书】：
1、包括基片和在基片上形成的正交磁性各向异性膜的正交磁性存贮介质。其特征在于，正交磁性各向异性膜是一种金属次氧化物膜。该氧化物具有的成分可用通用式[(Fe1-xCOx)1-yMy]1zOz(其中，0.01≤x≤0.75，0≤y≤0.30，0.05≤z≤0.50。M是除Fe、Co之外的至少一种金属)表示；该膜有与膜平面垂直的易磁化轴；在X射线衍射谱上可以观察到由氧化的Fe产生的X射线衍射峰和由金属态Fe、Co以及金属M产生的X射线衍射峰。
2、根据权利要求1所述的介质，其中，大于80%的Co以金属态存在，大于30%的Fe以FeO存在。
3、根据权利要求1到2中任何一项所述的介质，其中，金属M是从包括Al，Cr，Mo，Ti和Zr一组金属中选择的至少一种金属。
4、根据权利要求1到3中任何一项所述的介质，其中，饱和磁化强度的值不小于350〔emu/cm3〕。
5、根据权利要求1到4中任何一项所述的介质其中，正交磁性各向异性膜是用rf-溅射法或rf-磁溅射法制成的膜。
6、根据权利要求1到5中任何一项所述的介质，其中，柔性磁层是在基片和正交磁性各向异性膜之间形成的。
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