[发明专利]一种可调式晶圆边缘抛光装置

说明书

本发明公开了一种可调式晶圆边缘抛光装置，包括：抛光底座，抛光机构，设于抛光底座内，抛光机构包括驱动部件、抛光台和抛光垫，驱动部件设于抛光底座内，抛光台设于驱动部件上，抛光垫安装设于抛光台的外壁顶部，清洁机构，设于抛光台内，清洁机构包括移动部件、多组安装部件、多个第一清洁棉和多个第二清洁棉。该可调式晶圆边缘抛光装置，通过移动部件驱动多组安装部件移出抛光台，随着抛光台的转动，使每个第一清洁棉和第二清洁棉对收液框内表面抛光液残留物进行清理，避免收液框的内壁上残留抛光液，不便于清洁，清洁效率低，配合清洁管，提高清洁效果，通过通风机构，加快抛光底座内部的空气流通。

技术领域

本发明属于晶圆抛光技术领域，具体为一种可调式晶圆边缘抛光装置。

背景技术

在半导体行业中，将用于制作半导体集成电路的硅晶片称为晶圆，在晶圆加工的过程中，一般包括外围研磨、切片、研磨、蚀刻和抛光等步骤，在对晶圆进行抛光处理时，则需要使用到晶圆抛光仪，抛光仪可以有效地对晶圆的表面进行抛光。

在半导体晶圆的抛光、研磨等工艺过程中，需要大量地使用抛光液，抛光液的主要成分为磨粒和化学药剂，其中的磨粒对晶圆进行机械研磨，化学药剂与晶圆的表面材料发生反应，从而将表面凹凸不平的物质去除，抛光液在工作完成之后，需要进行回收，循环利用，然而抛光液在流经排液槽时不可避免地在排液槽的内壁上残留或结晶，因此需要对排液槽表面残留物进行清理。

现有的清洁方式是在加工结束后，通过人工刷洗的方式进行清洁，排液槽内壁与抛光台之间的间隙较小，不便于对排液槽进行清洁，增加了清洗过程的难度，导致清洁效率低，费时费力。

发明内容

本发明的目的在于：通过移动部件驱动多组安装部件移出抛光台，随着抛光台的转动，使每个第一清洁棉和第二清洁棉对收液框内表面抛光液残留物进行清理，避免收液框的内壁上残留抛光液，不便于清洁，清洁效率低，配合清洁管，提高清洁效果，通过通风机构，加快抛光底座内部的空气流通，从而加快抛光台内部的第一清洁棉和第二清洁棉干燥速度。

本发明采用的技术方案如下：一种可调式晶圆边缘抛光装置，包括：

抛光底座；

抛光机构，设于抛光底座内，所述抛光机构包括驱动部件、抛光台和抛光垫，所述驱动部件设于抛光底座内，所述抛光台设于驱动部件上，所述抛光垫安装设于抛光台的外壁顶部；

清洁机构，设于抛光台内，所述清洁机构包括移动部件、多组安装部件、多个第一清洁棉和多个第二清洁棉，所述移动部件设于抛光台上，每组所述安装部件均设于移动部件上，每个所述第一清洁棉设于均安装部件上，每个所述第二清洁棉均设于安装部件上；

收液框，固定嵌设于抛光底座的外壁顶部，所述收液框的外壁一侧沿圆周方向等距嵌设有多个清洁管；以及

通风机构，设于抛光台上。

其中，所述驱动部件包括抛光电机和转动轴，所述抛光电机通过螺栓安装于抛光底座的内壁底部，所述转动轴固定设置于抛光电机的输出端，且转动轴固定嵌设于抛光台的内壁顶部。

其中，所述移动部件包括转动电机、外齿轮、内齿轮、转动板和四组移动组件，所述转动电机通过螺栓安装于抛光台的内壁顶部，所述外齿轮固定设置于转动电机的输出端，所述转动板转动嵌设于抛光台的内壁，所述内齿轮固定设置于转动板的外壁顶部，且内齿轮与外齿轮之间相啮合，每组所述移动组件均沿圆周方向等距设于转动板上。

其中，每组所述移动组件均包括凸轮孔和移动轴，所述凸轮孔开设于转动板的外壁顶部，所述移动轴滑动嵌设于凸轮孔的内壁。