[发明专利]耐光型对位芳纶纤维及其制备方法

权利要求书

1.一种耐光型对位芳纶纤维的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、对预成型后的对位芳纶初生纤维进行蒸汽牵伸；

S2、将拉伸后的纤维在含氧气氛中进行等离子处理；

S3、对等离子处理后的纤维在偶联剂溶液中进行超声刻蚀；

S4、将超声刻蚀后的纤维在抗光剂分散液中浸渍后进行成型处理得到所述耐光型对位芳纶纤维。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述蒸汽牵伸的牵伸比为4~10。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，步骤S1中，所述蒸汽牵伸条件为：蒸汽温度为90~100℃，蒸汽压力为0.5~0.8Mpa，时间为3~5s。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S2中，所述等离子处理条件为：处理压强为30~40pa，处理功率为50-75W，处理时间为10~20s。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S3中，所述超声刻蚀条件为：超声频率为80~150HZ，处理时间为5~15s；和/或

所述偶联剂为KH-560或KH-550。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，步骤S4中，所述抗光剂为纳米三氧化二铝或纳米氧化钛；和/或

所述浸渍时间为2~5s。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述对位芳纶初生纤维经洗涤、烘干后再进行蒸汽牵伸，洗涤后初生纤维含硫量小于1000ppm。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述洗涤为超声水洗，超声频率为200~300HZ，水洗时间5~15s，烘干条件为：80~100℃，2~5s，100~120℃，3~8s。

9.根据权利要求1至6中任一项所述的制备方法，其特征在于，步骤S4中，所述成型处理包括一次烘干、上油、压辊和二次烘干，所述一次烘干温度为100~120℃，时间为2~5s，所述二次烘干条件为：80~100℃，3~5s；100~110℃，4~8s；110~120℃，3~5s。

10.一种耐光型对位芳纶纤维，其特征在于，由权利要求1至9中任一项所述的制备方法制得。