[实用新型]一种光学掩模版基板缺陷检验系统

说明书

本实用新型涉及一种光学掩模版基板缺陷检验系统，包括工作台和跨越在工作台上的上料输送装置，以及，搭接在上料输送装置上的工件本体，机柜上位于工件本体来向的位置依次设置有第一台位和第二台位，第一台位和第二台位上分别设置有对工件本体进行检测的检测设备；第一台位和第二台位均设置有跨越上料输送装置并连接在工作台上的悬臂，悬臂上连接有能够水平移动的移料模组，移料模组上连接有上下移动且能够抓取工件本体的吸盘组件；本实用新型通过移料模组、气浮三轴运动平台和检测设备，即可完成对工件本体的自动检测，整个系统自动化程度高，能够自动进行切换台位，提高工作效率，还能对不良品进行区分，具有很强的实用性。

技术领域

本实用新型涉及光学掩模版基板检测设备技术领域，尤其是一种光学掩模版基板缺陷检验系统。

背景技术

光刻掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得。

掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC(Integrated Circuit，集成电路)、FPD(Flat Panel Display，平板显示器)、 PCB(PrintedCircuit Boards，印刷电路板)等。

光刻掩膜版的基板质量会直接影响掩膜版的工艺质量，因此对光刻掩膜版的基板自身缺陷进行检测十分必要，目前市场上对于光刻掩膜版的基板的检测效率低，需要人工进行切换检测台位，影响加工效率。

为此我们提出一种光学掩模版基板缺陷检验系统。

实用新型内容

本申请人针对上述现有生产技术中的缺点，提供一种光学掩模版基板缺陷检验系统，从而通过自动化输送工件，同时控制对工件本体检测台位的切换，还能对不良品工件进行筛选的检测，具有很强的实用性。

本实用新型所采用的技术方案如下：

一种光学掩模版基板缺陷检验系统，包括工作台和跨越在工作台上的上料输送装置，以及，搭接在上料输送装置上的工件本体，其特征在于：

所述工作台内部位于工件本体来向的位置依次设置有第一台位和第二台位，第一台位和第二台位上分别设置有对工件本体进行检测的检测设备；

所述第一台位和所述第二台位均设置有跨越上料输送装置并连接在工作台上的悬臂，悬臂外侧连接有能够水平移动的移料模组，移料模组上连接有上下移动且能够抓取工件本体的吸盘组件；

所述第一台位和所述第二台位上均设置有带动工件本体沿横轴和竖轴移动的气浮三轴运动平台，气浮三轴运动平台包括固定平台，固定平台上设置有用于放置工件本体的固定腔，同时固定腔的底壁上设置有对工件本体进行照射的特殊光源；

位于两个所述台位后侧的工作台上还连接有跨越上料输送装置的另一个悬臂，悬臂上连接有移料模组，同时移料模组的下方设置有不良品输送装置。

其进一步特征在于：

所述工作台设置在机柜内，机柜的上端连接有提示灯，提示灯上能够显示不同颜色的灯光能够检测机柜中工件本体不同的状态。

所述机柜上设置方便向上料输送装置上料的进料口，以及分别设置有上料输送装置和不良品输送装置相对应的出料口。

所述上料输送装置包括两个相互靠近且平行的输送带，且工件本体同时搭载在两个输送带上。

所述移料模组包括吸盘组件，所述吸盘组件上设置有吸盘能够对工件本体进行抓取，吸盘组件上连接有伸缩结构，伸缩结构的另一端连接有滑动臂，滑动臂水平滑动在悬臂上。