[实用新型]一种光学掩模版基板缺陷检验系统

权利要求书

1.一种光学掩模版基板缺陷检验系统，包括工作台(1)和跨越在工作台(1)上的上料输送装置(2)，以及，搭接在上料输送装置(2)上的工件本体(8)，其特征在于：

所述工作台(1)内部位于工件本体(8)来向的位置依次设置有第一台位(A)和第二台位(B)，第一台位(A)和第二台位(B)上分别设置有对工件本体(8)进行检测的检测设备；

所述第一台位(A)和所述第二台位(B)均设置有跨越上料输送装置(2)并连接在工作台(1)上的悬臂(6)，悬臂(6)外侧连接有能够水平移动的移料模组(4)，移料模组(4)上连接有上下移动且能够抓取工件本体(8)的吸盘组件(403)；

所述第一台位(A)和所述第二台位(B)上均设置有带动工件本体(8)沿横轴和竖轴移动的气浮三轴运动平台(5)，气浮三轴运动平台(5)包括固定平台(501)，固定平台(501)上设置有用于放置工件本体(8)的固定腔(c)，同时固定腔(c)的底壁上设置有对工件本体(8)进行照射的特殊光源(502)；

位于两个台位后侧的工作台(1)上还连接有跨越上料输送装置(2)的另一个悬臂(6)，悬臂(6)上连接有移料模组(4)，同时移料模组(4)的下方设置有不良品输送装置(9)。

2.如权利要求1所述的一种光学掩模版基板缺陷检验系统，其特征在于：所述工作台(1)设置在机柜(10)内，机柜(10)的上端连接有提示灯(11)，提示灯(11)上能够显示不同颜色的灯光能够检测机柜(10)中工件本体(8)不同的状态。

3.如权利要求2所述的一种光学掩模版基板缺陷检验系统，其特征在于：所述机柜(10)上设置方便向上料输送装置(2)上料的进料口，以及分别设置有上料输送装置(2)和不良品输送装置(9)相对应的出料口。

4.如权利要求1所述的一种光学掩模版基板缺陷检验系统，其特征在于：所述上料输送装置(2)包括两个相互靠近且平行的输送带(202)，且工件本体(8)同时搭载在两个输送带(202)上。

5.如权利要求1所述的一种光学掩模版基板缺陷检验系统，其特征在于：所述移料模组(4)包括吸盘组件(403)，所述吸盘组件(403)上设置有吸盘能够对工件本体(8)进行抓取，吸盘组件(403)上连接有伸缩结构(402)，伸缩结构(402)的另一端连接有滑动臂(401)，滑动臂(401)水平滑动在悬臂(6)上。

6.如权利要求1所述的一种光学掩模版基板缺陷检验系统，其特征在于：所述第一台位和第二台位为不分前后位置的透射光视觉检测台位和偏振光视觉检测台位；

所述透射光视觉检测台位上的检测设备为透射光视觉检测设备(3)，特殊光源(502)所述透射光视觉检测台位上的特殊光源(502)为透视光源；

所述偏振光视觉检测台位上的检测设备为偏振光视觉检测设备(7)，所述偏振光视觉检测台位上的特殊光源(502)为偏振光源。

7.如权利要求1所述的一种光学掩模版基板缺陷检验系统，其特征在于：所述固定腔(c)内还设置有对工件本体(8)进行限位的硅胶接触面(503)，硅胶接触面(503)采用硅胶材质在对工件本体(8)进行固定的同时还能放置损坏，固定平台(501)的侧壁上设置有连接硅胶接触面(503)并控制硅胶接触面(503)伸缩的伸缩杆(504)。

8.如权利要求1所述的一种光学掩模版基板缺陷检验系统，其特征在于：所述气浮三轴运动平台(5)上还设置有带动固定平台(501)实现横轴和竖轴移动的一级气浮移动平台(505)、二级气浮移动平台(506)和三级气浮移动平台(507)；

所述固定平台(501)滑动设置在一级气浮移动平台(505)中，一级气浮移动平台(505)滑动在二级气浮移动平台(506)上，且二级气浮移动平台(506)滑动在三级气浮移动平台(507)上，同时相邻的移动平台上的滑槽呈垂直分布，且一级气浮移动平台(505)、二级气浮移动平台(506)和三级气浮移动平台(507)上的行程依次增大。