[实用新型]一种滴酸设备

说明书

本实用新型涉及滴酸机技术领域，具体公开了一种滴酸设备。该滴酸设备用于蚀刻待加工产品的待加工产品顶板，包括温控装置和滴酸装置；温控装置用于承载和加热待加工产品；滴酸装置包括相连通的中转组件和滴酸头，中转组件用于存储及传输滴酸酸液，滴酸头用于向待加工产品顶板滴涂酸液滴，酸液滴为滴酸酸液的液滴，滴酸头固接有端头网，端头网能够部分置于酸液滴内。该滴酸设备通过加热待加工产品的方式，加快了蚀刻的速度，提升了加工的效率；借助端头网能够部分置于酸液滴内的设计，使酸液滴内的气泡能够附着在端头网上排出，由此降低了气泡炸裂的风险，降低待加工产品顶板产生白点和麻点的风险。

技术领域

本实用新型涉及滴酸机技术领域，尤其涉及一种滴酸设备。

背景技术

现有技术中，液晶面板行业在制作On Cell工艺的产品时，需要利用滴液酸设备进行滴酸制程以去除On Cell的顶层。

如图1所示，待加工产品包括自上而下设置的待加工产品顶板100’和待加工产品基板200’，待加工产品顶板100’与待加工产品基板200’相贴接，现有的滴酸设备包括承载台400’和滴酸装置，承载台400’用于承载待加工产品，滴酸装置包括依次连通的补酸阀310’、中转组件、出酸阀330’和滴酸头340’；补酸阀310’和出酸阀330’用于控制管线的通断，中转组件包括活塞件322’和中转缸323’，中转缸323’和活塞件322’形成收纳腔，收纳腔用于收纳滴酸酸液，中转马达321’通过驱动活塞件322’相对中转缸323’升降，能够增减收纳腔的容积，滴酸头340’用于向待加工产品顶板100’滴涂酸液滴900’。

在当前制程中，滴酸头340’将酸液滴900’滴至待加工产品上后，酸液滴900’开始与待加工产品顶板100’反应，反应过程约10分钟，能够将待加工产品顶板100’蚀刻完毕。然而，反应过程中产生的氢气气泡会上浮至酸液滴900’的表面并逸出，气泡炸裂的过程可能会导致滴酸酸液的扩散，进而在导致待加工产品顶板100’上产生白点和麻点。

现有的On Cell产品的加工流程之中，存在有以下问题：

1)滴酸酸液蚀刻较慢，确认蚀刻的时间较长；

2)酸液蚀刻过程中，滴酸头340’与待加工产品顶板100’反应生成氢气，氢气上浮至酸液滴900’的表面排出，上述过程可能导致待加工产品顶板100’出现白点和麻点。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种滴酸设备，以提升酸液滴的蚀刻效率，降低待加工产品顶板产生白点和麻点的风险。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种滴酸设备，用于蚀刻待加工产品的待加工产品顶板，包括温控装置和滴酸装置；所述温控装置用于承载和加热所述待加工产品；所述滴酸装置包括相连通的中转组件和滴酸头，所述中转组件用于存储及传输滴酸酸液，所述滴酸头用于向所述待加工产品顶板滴涂酸液滴，所述酸液滴为所述滴酸酸液的液滴，所述滴酸头固接有端头网，所述端头网能够部分置于所述酸液滴内。

作为滴酸设备的优选技术方案，所述温控装置包括支撑台和温控泵，所述温控泵用于调整所述支撑台的温度。

作为滴酸设备的优选技术方案，所述支撑台上均布有多个温度感应器，所述温度感应器用于监测所述支撑台各处的温度，每个所述温度感应器均与所述温控泵通信连接。

作为滴酸设备的优选技术方案，所述支撑台的温度处于工作阈值范围内。

作为滴酸设备的优选技术方案，所述滴酸装置还包括供酸单元，所述供酸单元用于向所述中转组件供应所述滴酸酸液。

作为滴酸设备的优选技术方案，所述中转组件的上游设有补酸阀，所述中转组件的下游设有出酸阀，所述补酸阀用于控制所述中转组件与所述供酸单元的通断，所述出酸阀用于控制所述中转组件与所述滴酸头的通断。