[实用新型]反射模块组件、相机模块及用于相机模块的反射模块有效

专利信息
申请号: 202221084958.X 申请日: 2022-04-27
公开(公告)号: CN217386104U 公开(公告)日: 2022-09-06
发明(设计)人: 申俊燮;金浦哲;林我炫;李益先 申请(专利权)人: 三星电机株式会社
主分类号: G03B17/12 分类号: G03B17/12;G03B17/17
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;王艳春
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 反射 模块 组件 相机 用于
【权利要求书】:

1.反射模块组件,其特征在于,所述反射模块组件包括:

壳体,具有内部空间;以及

反射模块,容纳在所述壳体的所述内部空间中,

其中,所述反射模块包括反射支架、至少一个阻尼器以及阻尼器支架,所述反射支架支承配置成改变入射光的路径的反射构件,所述至少一个阻尼器联接到所述反射支架,所述阻尼器支架支承所述至少一个阻尼器,以及

其中,所述至少一个阻尼器通过所述阻尼器支架联接到所述反射支架。

2.根据权利要求1所述的反射模块组件,其特征在于,在所述至少一个阻尼器和所述反射支架之间形成阻尼间隙。

3.根据权利要求2所述的反射模块组件,其特征在于,所述至少一个阻尼器在垂直于所述反射构件的入射表面的方向上突出。

4.根据权利要求1所述的反射模块组件,其特征在于,所述阻尼器支架包括第一延伸部分和紧固部分,所述第一延伸部分跨过所述反射支架的下表面延伸,所述紧固部分从所述第一延伸部分的两个端部中的每一个弯曲并延伸,并将所述阻尼器支架固定到所述反射支架,以及

其中,所述至少一个阻尼器包括至少一个第一阻尼器,所述至少一个第一阻尼器插入所述第一延伸部分并由所述第一延伸部分支承。

5.根据权利要求4所述的反射模块组件,其特征在于,所述第一延伸部分与所述反射支架的所述下表面接触,

其中,容纳所述至少一个第一阻尼器的至少一部分的第一阻尼器凹槽设置在所述反射支架的所述下表面中,以及

其中,在所述第一阻尼器凹槽和所述至少一个第一阻尼器之间形成第一阻尼间隙。

6.根据权利要求4所述的反射模块组件,其特征在于,所述至少一个第一阻尼器包括在所述第一延伸部分的长度方向上设置在所述第一延伸部分上的多个第一阻尼器,以及

其中,所述多个第一阻尼器之间的距离等于或小于所述反射构件的宽度。

7.根据权利要求4所述的反射模块组件,其特征在于,所述反射模块的所述至少一个第一阻尼器配置成在所述反射支架朝向所述壳体的下表面移动时首先与所述壳体的所述下表面接触。

8.根据权利要求7所述的反射模块组件,其特征在于,所述壳体还包括突起,所述突起从所述壳体的所述下表面的面对所述至少一个第一阻尼器的一部分朝向所述反射支架突出。

9.根据权利要求4所述的反射模块组件,其特征在于,所述反射支架还包括紧固突起,所述紧固突起朝向所述阻尼器支架突出,以及

其中,所述阻尼器支架的所述紧固部分中设置有紧固凹槽,所述紧固突起插入所述紧固凹槽中。

10.根据权利要求4所述的反射模块组件,其特征在于,所述阻尼器支架还包括第二延伸部分,所述第二延伸部分分别从所述紧固部分的端部在相对方向上沿着所述反射支架的上表面延伸,以及

其中,所述至少一个阻尼器包括至少一个第二阻尼器,所述至少一个第二阻尼器插入所述第二延伸部分并由所述第二延伸部分支承。

11.根据权利要求10所述的反射模块组件,其特征在于,所述第二延伸部分以对应于所述反射构件的宽度或更大的距离彼此间隔开。

12.根据权利要求10所述的反射模块组件,其特征在于,容纳所述至少一个第二阻尼器的至少一部分的第二阻尼器凹槽设置在所述反射支架的所述上表面中,以及

其中,在所述第二阻尼器凹槽和所述至少一个第二阻尼器之间形成第二阻尼间隙。

13.根据权利要求10所述的反射模块组件,其特征在于,所述反射模块组件还包括覆盖所述壳体的上盖,

其中,所述反射模块的所述至少一个第二阻尼器配置成在所述反射支架朝向所述上盖移动时首先与所述上盖接触。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电机株式会社,未经三星电机株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202221084958.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top