[实用新型]半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备

权利要求书

1.半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备，其特征在于，包括两组分别位于链板线两侧的换热装置，所述换热装置包括安装于链板线侧面基座上的壳体，所述壳体内部设置有沿其长度延伸的连续弯曲的冷水管，所述冷水管的一端连接板式换热器的出水管，另一端连接板式换热器的进水管，所述壳体内部设置有包覆所述冷水管的保温棉，所述保温棉的密度自进水端向出水端逐渐降低。

2.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备，其特征在于，所述壳体的内侧壁上设置有自润滑的聚四氟乙烯涂层。

3.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备，其特征在于，所述壳体的外侧设置有可拆卸的盖板。

4.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备，其特征在于，所述壳体内部设置有固定所述冷水管的支架。

5.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备，其特征在于，所述壳体内部设置有两条冷水管，这两条冷水管的运水方向相反。

6.根据权利要求1所述的半导体多晶硅片清洗试剂生产散热设备，其特征在于，所述链板线的侧面基座的顶部设置有滑轨，所述壳体滑接于所述滑轨上。