[实用新型]晶圆载具有效
| 申请号: | 202220675319.4 | 申请日: | 2022-03-26 |
| 公开(公告)号: | CN217507281U | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
| 发明(设计)人: | 尹伟斌;徐玉春 | 申请(专利权)人: | 宁波达新半导体有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 郭四华 |
| 地址: | 315400 浙江省宁波市余姚市经济开*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 晶圆载具 | ||
本实用新型公开了一种晶圆载具,包括:片架和多个托盘;片架上设置有多层安装槽,各安装槽用于托盘。托盘用于放置晶圆并对晶圆进行背面整体支撑,使晶圆的背面受力均匀,用以防止晶圆产生翘曲。托盘上设置有镂空结构,多层托盘的镂空结构用于在片架内形成空气流通通道,以保证片架内温度均匀。本实用新型能避免通过对晶圆的边缘进行支撑来载片,能使晶圆背面均匀受力,防止晶圆产生翘曲,适用于对减薄晶圆进行载片。
技术领域
本实用新型涉及一种半导体集成电路晶圆(wafer)测试装置,特别是涉及一种晶圆载具。
背景技术
在半导体集成电路制造中,往往需要对晶圆进行减薄。一种比较常用的减薄工艺为太鼓(Taiko)减薄,太鼓减薄仅将晶圆的中间部分减薄,在晶圆的边沿则会形成未减薄的半导体衬底组成支撑环。在背面工艺过程中,通过支撑环来实现晶圆的移动放置等操作。背面工艺完成后,需要进行切环工艺将TAIKO工艺晶圆的支撑环去除,这时,晶圆仅具有中间减薄部分,容易发生翘曲。现有晶圆片架都是通过晶圆边缘来承载晶圆,晶圆支撑环去除后,则将无法承载晶圆。
以6英寸的TAIKO工艺晶圆为例,晶圆在切环以后,晶圆直径由150mm变为140mm,晶圆厚度也由常规的200μm变成80μm,晶圆翘曲非常大,现有常规晶圆片架无法承载。
在功率器件如IGBT器件的背面工艺中,为了实现达到预期源漏导通电压(VDSON)参数,会将晶圆减薄至80微米左右,在晶圆减薄以后还要完成注入,退火及背面金属化等工艺,80微米的厚度会使晶圆变的非常翘曲。为达到减薄后能继续加工,通常采用TAIKO工艺减薄,即边缘会形成一圈宽度约为5mm以及厚度为200μm的支撑环用于支撑,支撑环的内部中间区域则研磨至80μm,方便后续加工。
对于芯片设计公司来说通常晶圆制造由外协完成,也即会委托晶圆代工厂来制作,最后芯片测试则由芯片设计公司内部来做,芯片测试包括晶圆测试(CP),此时,支撑环已经被去除,这样就需要一种用于可承载切环以后用于承载晶圆的载具。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种晶圆载具,能避免通过对晶圆的边缘进行支撑来载片,能使晶圆背面均匀受力,防止晶圆产生翘曲,适用于对减薄晶圆进行载片。
为解决上述技术问题,本实用新型提供的晶圆载具,包括:片架和多个托盘;
所述片架上设置有多层安装槽,各所述安装槽用于所述托盘。
所述托盘用于放置晶圆并对所述晶圆进行背面整体支撑,使所述晶圆的背面受力均匀,用以防止所述晶圆产生翘曲。
所述托盘上设置有镂空结构,多层所述托盘的镂空结构用于在所述片架内形成空气流通通道,以保证所述片架内温度均匀。
进一步的改进是,所述晶圆经过减薄,所述晶圆的厚度为100微米以下。
进一步的改进是,所述晶圆经过太鼓减薄且所述太鼓减薄形成的支撑环被去除。
进一步的改进是,晶圆载具的应用环境包括所述晶圆的CP测试、打点墨水以及打点墨水后的烘烤。
进一步的改进是,所述托盘的材料包括6061铝合金。
进一步的改进是,所述托盘的镂空结构为X型掏空切割结构且切割转角都设置为圆角。
进一步的改进是,所述托盘的表面涂布有特氟龙,用以减少所述托盘和所述晶圆背面的摩擦。
进一步的改进是,所述片架包括:左侧板,右侧板,上连接板,下拉杆。
所述左侧板上设置有多层第一凹槽,所述右侧板上设置有多层第二凹槽,各层所述安装槽由同一层的所述第一凹槽和所述第二凹槽组合而成。
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