[发明专利]一种正极片边缘陶瓷涂布方法及正极片在审
| 申请号： | 202211697188.0 | 申请日： | 2022-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN116083837A | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | 程如亮;潘文成 | 申请（专利权）人： | 天津市捷威动力工业有限公司 |
| 主分类号： | C23C4/134 | 分类号： | C23C4/134;C23C4/04;H01M4/04;H01M4/02;H01M50/593;H01M50/597 |
| 代理公司： | 天津企兴智财知识产权代理有限公司 12226 | 代理人： | 韩敏 |
| 地址： | 300380 天津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 正极 边缘 陶瓷 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种正极片边缘陶瓷涂布方法，其特征在于，包括以下步骤：
通过送粉系统将陶瓷粉体送入等离子体喷涂设备；
通过所述等离子体喷涂设备将陶瓷粉体喷涂在极片表面，
其中，喷涂电流为450-550A，喷涂距离为60-85mm，辅助气体流量为3-5L/min。
2.根据权利要求1所述的涂布方法，其特征在于：所述送粉系统的送粉气流为0.5～0.8m3/h，送粉速度为20～40g/min，主气体流量为20～50L/min，送粉气体流量为2.5～5L/min。
3.根据权利要求2所述的涂布方法，其特征在于：所述主气体及送粉气体为惰性气体，优选为氩气。
4.根据权利要求1所述的涂布方法，其特征在于：所述等离子喷涂设备的喷涂速度为20～60mm/s，喷涂角度为30～60°。
5.根据权利要求1所述的涂布方法，其特征在于：辅助气体为氢气。
6.根据权利要求1所述的涂布方法，其特征在于：所述陶瓷粉体喷涂在极片表面的宽度为3.5～4.5mm，单面陶瓷粉体厚度为30～40μm。
7.一种正极片，采用根据权利要求1-6任一所述的涂布方法制得。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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