[发明专利]一种交联剂及其制备方法、光刻胶在审
| 申请号: | 202211695259.3 | 申请日: | 2022-12-28 |
| 公开(公告)号: | CN115974880A | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
| 发明(设计)人: | 王璨;孙嘉;李冰;鲁代仁;王文芳;董栋;张宁 | 申请(专利权)人: | 上海彤程电子材料有限公司;北京彤程创展科技有限公司;北京科华微电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司 |
| 主分类号: | C07D487/04 | 分类号: | C07D487/04;G03F7/004 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 吕露 |
| 地址: | 201507 上海市奉贤*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 交联剂 及其 制备 方法 光刻 | ||
1.一种交联剂,其特征在于,所述交联剂的结构式如下:
其中,所述R1、所述R2、所述R3和所述R4各自独立地选自H、C1~10饱和或不饱和烷基、C1~10饱和或不饱和环烷基、或-R7-O-R8;
所述R5选自C1~10烷基;
所述R6选自H或C1~20烷基;
所述R7选自C1~10烷基;
所述R8选自H或C1~20烷基;
所述R1、所述R2、所述R3和所述R4中任意的至少两个选自第一基团和第二基团中的至少一种;
所述第一基团的结构式为
所述第二基团的结构式为-R7-O-R8,且所述R8不为H。
2.根据权利要求1所述的交联剂,其特征在于,所述R8选自C8~16烷基。
3.根据权利要求1所述的交联剂,其特征在于,所述R1、所述R2、所述R3和所述R4中任意的2~3个选自所述第一基团和所述第二基团的至少一种。
4.根据权利要求2所述的交联剂,其特征在于,所述R5和所述R7均选自CH2。
5.一种权利要求1~4任一项所述的交联剂的制备方法,其特征在于,所述交联剂的制备方法包括:将羟甲基甘脲和反应物经酸性催化反应制得中间物,再将所述中间物中和;
所述羟甲基甘脲的结构式如下:
其中,所述R9、所述R10、所述R11和所述R12各自独立地选自H或-R13-OH;
所述R13选自C1~10烷基;
所述R9、所述R10、所述R11和所述R12中任意的至少两个选自-R13-OH;
所述反应物包括烷基酚化合物和醇类化合物中的至少一种;
所述烷基酚化合物的结构式如下:
其中,所述R14、所述R15各自独立地选自H或-R16;
所述R16选自C1-20饱和或不饱和烷基;
所述R14、所述R15中任意的至少一个选自-R16;
所述醇类化合物的结构式如下:
所述n为0~19。
6.根据权利要求5所述的交联剂的制备方法,其特征在于,所述酸性催化反应温度为50℃~150℃,反应时间为0.4h~12h。
7.根据权利要求5所述的交联剂的制备方法,其特征在于,所述羟甲基甘脲和所述反应物的摩尔比为1:2~1:4。
8.根据权利要求5所述的交联剂的制备方法,其特征在于,将所述中间物中和后制得第一混合物,将所述第一混合物减压抽真空制得所述交联剂;
可选地,所述减压抽真空的温度为120℃~230℃,减压抽真空的时间为20min~40min。
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