[发明专利]阵列基板和显示面板

权利要求书

1.一种阵列基板，包括基板和设于所述基板上的第一薄膜晶体管，其特征在于，所述第一薄膜晶体管为低温多晶硅薄膜晶体管，所述第一薄膜晶体管包括依次层叠于所述基板上的第一有源层和绝缘层，所述第一薄膜晶体管还包括氧化物层，所述氧化物层直接层叠于所述第一有源层上且位于所述第一有源层和绝缘层之间。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述氧化物层的材料是包含铟，镓，锌，锡与镧系金属中至少一种的氧化物。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一有源层包括第一源极区和第一漏极区，以及设于所述第一源极区和所述第一漏极区之间的第一沟道区，所述氧化物层至少覆盖所述沟道区。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述基板的材料是聚酰亚胺，所述阵列基板还包括遮光层，所述遮光层设于所述基板和所述第一有源层之间，所述遮光层在所述基板上的投影至少覆盖所述第一沟道区在所述基板上的投影。

5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设于所述基板上的第二薄膜晶体管，所述第二薄膜晶体管为氧化物薄膜晶体管，所述第二薄膜晶体管包括第二有源层，所述第二有源层包括第二源极区和第二漏极区，以及设于所述第二源极区和所述第二漏极区之间的第二沟道区。

6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括遮光层，所述遮光层设于所述基板和所述第二有源层之间，所述遮光层在所述基板上的投影至少覆盖所述第二沟道区在所述基板上的投影。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述基板的材料是聚酰亚胺，所述遮光层在所述基板上的投影进一步覆盖所述第一沟道区在所述基板上的投影。

8.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述第一有源层和所述第二有源层设于同一膜层上，所述氧化物层和所述第二有源层通过同一制程获得。

9.根据权利要求4、6或7所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设于所述基板上的缓冲层，所述缓冲层设于所述遮光层背向所述基板的一侧，且完全覆盖所述遮光层。

10.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括如权利要求1-9中任意一项所述的阵列基板。