[发明专利]一种高效祛痘组合物及其制备方法在审
| 申请号: | 202211625333.4 | 申请日: | 2022-12-16 |
| 公开(公告)号: | CN115813822A | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
| 发明(设计)人: | 潘玉凤;徐勇杰 | 申请(专利权)人: | 厦门海尼生物科技有限公司 |
| 主分类号: | A61K8/9789 | 分类号: | A61K8/9789;A61K8/34;A61K8/368;A61K8/73;A61K8/60;A61K8/27;A61K8/49;A61K8/44;A61K8/86;A61Q19/00;A61Q17/00;A61P17/10 |
| 代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 施青青 |
| 地址: | 361000 福建省厦门*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 高效 组合 及其 制备 方法 | ||
本申请涉及个人护理品技术领域,具体提供一种高效祛痘组合物及其制备方法。本申请的高效祛痘组合物按100%重量,包括以下各原料组分,1‑10%甘油、0.02‑15%地黄提取物、0.05‑1%黄原胶、0.01‑0.5%EDTA‑2Na、2‑6%桂花花提取物、0.2‑10%改性水杨酸、0.05‑2%葡萄糖酸锌、0.2‑2%酒精、0.005‑1%桃拓酚、1‑5%二丙二醇、0.005‑0.15%二氯苯甲醇、0.2‑2%增溶剂DZ‑917,余量为水。优选示例中,改性水杨酸为包裹水杨酸、聚醚三硅氧烷改性水杨酸或者水杨酸接枝壳聚糖。本申请的高效祛痘组合物对皮肤无刺激,祛痘效果好。
技术领域
本申请涉及个人护理品技术领域,具体地,涉及一种高效祛痘组合物及其制备方法。
背景技术
青春痘的产生原因主要有以下几点:(1)脸部皮肤皮脂腺分泌亢进、过多,给丙酸唑疮杆菌提供了必要的养料,导致丙酸唑疮杆菌过渡繁殖和滋生,造成毛囊感染;(2)毛孔角质分化过度,与皮脂混合,堵塞毛孔,提供了封闭的环境,产生黑头、白头、粉刺;(3)局部的炎症反应破坏了大量组织,炎症消退后局部组织纤维化造成囊肿、疤痕组织等。通常情况下,比较严重的青春痘是以上几点原因的综合结果。
目前的祛痘护理品只能针对上述青春痘产生的原因中的一两点,功效单一,或者有其他刺激皮肤的成分,比如杏仁酸等,或者还含有一些能一起灭杀皮肤有益菌的杀菌成本,比如伞花烃、皮傲宁等。
发明内容
为了解决现有技术中祛痘组合物功效单一,对于较为严重的青春痘不能起到较好的祛痘效果以及祛痘效果慢等问题,本申请提供一种高效祛痘组合物及其制备方法。
本申请采用如下的技术方案:
一种高效祛痘组合物,按100%重量,包括以下各原料组分,1-10%甘油、0.02-15%地黄提取物、0.05-1%黄原胶、0.01-0.5% EDTA-2Na、2-6%桂花花提取物、0.2-10%改性水杨酸、0.05-2%葡萄糖酸锌、0.2-2%酒精、0.005-1%桃拓酚、1-5%二丙二醇、0.005-0.15%二氯苯甲醇、0.2-2%增溶剂DZ-917,余量为水。
优选的,所述原料组分还包含0.1-1%四氢胡椒碱。
优选的,所述地黄提取物为怀地黄提取物。
优选的,所述改性水杨酸为包裹水杨酸。
优选的,所述改性水杨酸为聚醚三硅氧烷改性水杨酸。
更优选的,所述聚醚三硅氧烷改性水杨酸由化学式为O(CH2CH)CH2O(CH2CH2O)m(CH2CH3CHO)nCH2CH2CH2Si3O2Me7端环氧基聚醚三硅氧烷与水杨酸反应获得,其中m=5-50,n=0-20,Me代表甲基。
进一步优选的,所述端环氧基聚醚三硅氧烷与水杨酸的摩尔比为1:0.3-10。
再进一步优选的,所述端环氧基聚醚三硅氧烷与水杨酸的摩尔比1:1-5。
优选的,所述改性水杨酸为水杨酸接枝壳聚糖。
一种上述任一实施方案所述的高效祛痘组合物的制备方法,包括以下步骤,
将所述甘油和所述黄原胶分散均匀,获得混合物;
将所述水和所述地黄提取物搅拌溶解均匀,加入所述EDTA-2Na和所述混合物,搅拌溶解均匀,获得A相;
将所述酒精、所述桃拓酚、所述双丙二醇、所述二氯苯甲醇和所述增溶剂DZ-917混合均匀,获得B相;
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