[发明专利]DRC验证图形的建模方法在审

专利信息
申请号: 202211557189.5 申请日: 2022-12-06
公开(公告)号: CN116227422A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 许猛勇;林晓帆;郑舒静;于明 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: G06F30/398 分类号: G06F30/398
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 代理人: 郭四华
地址: 201203 上海市浦东新区中*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: drc 验证 图形 建模 方法
【说明书】:

发明公开了一种DRC验证图形的建模方法,包括:步骤一、读取文本设计规则。步骤二、对文本设计规则进行识别,包括:步骤21、根据测试类型的描述格式提取文本设计规则中所包含的测试类型。步骤22、根据文本设计规则中的图层描述识别出文本设计规则中所包含的图层对象。步骤三、根据文本设计规则中所包含的测试类型和图层对象建立标准DRC验证模型。本发明能基于读取的文本设计规则建立对应的标准DRC验证模型,从而能实现快速、准确的批量化产生DRC验证图形。

技术领域

本发明涉及一种半导体集成电路制造方法,特别是涉及一种设计规则检查(DRCdesign rule check,DRC)验证图形的建模方法。

背景技术

DRC是电路设计中必不可少的验证环节,能帮助版图工程师快速检查电路版图是否符合晶圆厂提供的工艺设计规则。

晶圆厂在开发DRC验证文件时,一般会依据工艺设计规则反向建立大量的测试图形即DRC验证图形来测试DRC验证文件的准确性,而一套DRC验证图形库的规模至少数以千计,加之快速的工艺迭代,会耗费大量的测试成本。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种DRC验证图形的建模方法,能基于读取的文本设计规则建立对应的标准DRC验证模型,从而能实现快速、准确的批量化产生DRC验证图形并形成DRC验证图形库。

为解决上述技术问题,本发明提供的DRC验证图形的建模方法包括如下步骤:

步骤一、读取文本设计规则。

步骤二、对所述文本设计规则进行识别,包括如下分步骤:

步骤21、根据测试类型的描述格式提取所述文本设计规则中所包含的测试类型。

步骤22、根据所述文本设计规则中的图层描述识别出所述文本设计规则中所包含的图层对象。

步骤三、根据所述文本设计规则中所包含的所述测试类型和所述图层对象建立标准DRC验证模型。

进一步的改进是,步骤21中,所述测试类型是指版图中的图层之间的相互关系,所述测试类型的各分类都具有对应的固定描述格式。

进一步的改进是,所述测试类型包括:间距、包围、宽度、面积、重叠。

进一步的改进是,步骤22中,所述图层描述具有不确定性且会根据工艺以及设计规则的制定人员的语言习惯的变化而变化。

进一步的改进是,步骤22中,当从所述图层描述识别出多个图层对象时,选择优先级最高的图层对象作为所述文本设计规则中所包含的图层对象。

进一步的改进是,所述文本设计规则中具有位于待检测的图层之间的介词。

步骤22中,当从所述图层描述识别出多个图层对象时,所述优先级的相关参数包括所述图层对象距离所述介词的第一词距以及所述图层对象的字符数和整条所述文本设计规则的字符数的比值形成的第二文本匹配率。

所述第一词距越小,所述优先级越高。

所述第二文本匹配率越大,所述优先级越高。

进一步的改进是,所述第一词距取为所述图层对象的首字母到所述介词之间的字符数。

进一步的改进是,步骤22中,当从所述图层描述识别出多个图层对象时,还包括如下分步骤:

步骤221、对所识别的各所述图层对象进行二维向量提取并组成图层对象矩阵,第一维向量为各所述图层对象的所述第一词距组成的向量,第二维向量为各所述图层对象的所述第二文本匹配率组成的向量。

步骤222、对所述图层对象矩阵进行归一化处理并形成图层对象归一化矩阵。

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