[发明专利]一种用于芯片蚀刻上片机在审
| 申请号: | 202211508281.2 | 申请日: | 2022-11-29 |
| 公开(公告)号: | CN115831835A | 公开(公告)日: | 2023-03-21 |
| 发明(设计)人: | 许振江 | 申请(专利权)人: | 许振江 |
| 主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 361000 福建省厦*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 芯片 蚀刻 上片 | ||
1.一种用于芯片蚀刻上片机,其结构包括:横向柱(1)、拼接架(2)、推送组件(3)、残渣箱(4)、放置组件(5),其特征在于:所述横向柱(1)两侧焊接于拼接架(2)的内侧表层,所述拼接架(2)上端与推送组件(3)进行间隙配合,所述推送组件(3)表层与残渣箱(4)下端相连接,所述残渣箱(4)上方与放置组件(5)相通并进行固定连接,所述放置组件(5)通过残渣箱(4)与推送组件(3)进行位移活动。
2.根据权利要求1所述的一种用于芯片蚀刻上片机,其特征在于:所述拼接架(2)设有锁紧栓(21)、第一定位片(22)、第二定位片(23)、压力块(24)、推平层(25),所述锁紧栓(21)贯穿于第一定位片(22)表层并进行螺纹连接,所述第二定位片(23)与第一定位片(22)进行间距配合并进行螺纹连接,所述压力块(24)嵌入于第一、第二定位片(22、23)的间距当中,所述推平层(25)安装于压力块(24)的下端,所述推平层(25)下方与放置组件(5)表层相通并处于同一垂直线上。
3.根据权利要求2所述的一种用于芯片蚀刻上片机,其特征在于:所述推平层(25)设有外壳(251)、卡块(252)、装配体(253)、支撑组件(254)、摩擦层(255),所述外壳(251)内侧边缘与卡块(252)为一体化结构,所述装配体(253)通过卡块(252)与外壳(251)内部进行卡合连接,所述支撑组件(254)与装配体(253)进行固定连接,所述摩擦层(255)设置于支撑组件(254)的中端部位并进行定位连接,所述支撑组件(254)与压力块(24)下端进行固定连接。
4.根据权利要求3所述的一种用于芯片蚀刻上片机,其特征在于:所述支撑组件(254)设有凸块(a1)、衔接件(a2)、垂直杆(a3)、锁紧器(a4)、滚珠(a5),所述凸块(a1)嵌入于衔接件(a2)的中端部位,所述衔接件(a2)与垂直杆(a3)进行固定连接,所述锁紧器(a4)嵌入于垂直杆(a3)的中心部位,所述滚珠(a5)通过锁紧器(a4)与垂直杆(a3)进行间隙配合,所述锁紧器(a4)与摩擦层(255)进行间距配合,所述滚珠(a5)通过锁紧器(a4)与摩擦层(255)横向中端相通并进行间隙配合。
5.根据权利要求4所述的一种用于芯片蚀刻上片机,其特征在于:所述锁紧器(a4)设有拨动槽(a41)、控制体(a42)、螺纹层(a43)、限位层(a44)、活动槽(a45),所述拨动槽(a41)与控制体(a42)为一体化结构,所述控制体(a42)内侧与螺纹层(a43)为同一圆心,所述限位层(a44)嵌入于螺纹层(a43)的内侧边缘,所述活动槽(a45)与限位层(a44)相通,所述活动槽(a45)与滚珠(a5)进行间隙配合,所述螺纹层(a43)通过控制体(a42)与垂直杆(a3)进行螺纹连接。
6.根据权利要求1所述的一种用于芯片蚀刻上片机,其特征在于:所述放置组件(5)设有滑槽(51)、防锈框(52)、镂空层(53)、间距组件(54)、卡片端(55),所述滑槽(51)与防锈框(52)两侧为一体化结构,所述镂空层(53)贯穿于防锈框(52)的内侧,所述间距组件(54)固定于防锈框(52)的内部两侧并与镂空层(53)相通,所述卡片端(55)于间距组件(54)进行定位连接,所述卡片端(55)下端与镂空层(53)相通,所述卡片端(55)通过镂空层(53)与残渣箱(4)相通。
7.根据权利要求6所述的一种用于芯片蚀刻上片机,其特征在于:所述卡片端(55)设有夹环(551)、匹配槽(552)、隔断管(553)、导出端(554)、组装层(555),所述夹环(551)与匹配槽(552)为同一圆心,所述匹配槽(552)与隔断管(553)为同一直线并相通,所述导出端(554)设置于隔断管(553)的下端,所述组装层(555)固定于隔断管(553)的表层中心,所述组装层(555)与间距组件(54)进行固定连接。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





