[发明专利]一种大理石影雕快速走刀雕刻方法及系统

权利要求书

1.一种大理石影雕快速走刀雕刻方法，其特征在于，包括如下步骤：

利用自动编程软件将大理石影雕图像转化成影雕二值化图案；

对影雕二值化图案进行像素点扫描，得到每一行待雕刻的白色像素点集合；

根据每一行待雕刻的白色像素点集合生成刀具轨迹；

根据刀具轨迹控制刀具在大理石上进行雕刻。

2.根据权利要求1所述的一种大理石影雕快速走刀雕刻方法，其特征在于，按照之字形路线逐行扫描影雕二值化图案中的像素点，并记录每一行的白色像素点位置、数量，得到每一行待雕刻的白色像素点集合。

3.根据权利要求1所述的一种大理石影雕快速走刀雕刻方法，其特征在于，以影雕二值化图案的左上角作为起点，将用于雕刻的刀具定位至起点上方高度一处，其中，高度一为预设高度；

根据每一行待雕刻的白色像素点集合生成刀具轨迹，从第一行开始逐行进行大理石雕刻，其中，每一行雕刻完成后，刀具自动抬刀至该行最后一个白色像素点上方高度一处。

4.根据权利要求3所述的一种大理石影雕快速走刀雕刻方法，其特征在于，当某一行只有一个待雕刻的白色像素点时，刀具轨迹为：将刀具保持高度一不变、水平移动至待雕刻的白色像素点上方，将刀具垂直向下运动到高度二并垂直返回至高度一，其中，高度二等于大理石上表面高度减去影雕钻孔深度。

5.根据权利要求3所述的一种大理石影雕快速走刀雕刻方法，其特征在于，当某一行存在多个待雕刻的白色像素点时，刀具轨迹为：

将刀具保持高度一不变、水平移动至该行第一个待雕刻的白色像素点上方，将刀具垂直向下运动到第一个待雕刻的白色像素点下方高度二处，其中，高度二等于大理石上表面高度减去影雕钻孔深度；

如果下一个待雕刻的白色像素点j与当前白色像素点i不相邻，将刀具以倾斜路线从当前白色色像素点i下方高度二处移动至其后方相邻像素点i+1上方高度一处，再将刀具保持高度一不变、水平移动至白色像素点j前方相邻像素点j-1的上方，将刀具以倾斜路线从像素点j-1上方高度一处移动至白色像素点j下方高度二处；

如果下一个待雕刻的白色像素点与当前白色像素点相邻，将刀具保持高度二不变、水平移动至下一个待雕刻的像素点；

如果当前白色像素点为该行最后一个待雕刻的白色像素点，则将刀具从当前白色像素点下方高度二处垂直向上运动到高度一。

6.一种大理石影雕快速走刀雕刻系统，其特征在于，包括：

图像预处理模块，用于利用自动编程软件将大理石影雕图像转化成影雕二值化图案；

像素点扫描模块，用于对影雕二值化图案进行像素点扫描，得到每一行待雕刻的白色像素点集合；

刀具轨迹生成模块，用于根据每一行待雕刻的白色像素点集合生成刀具轨迹；

雕刻模块，用于根据刀具轨迹控制刀具在大理石上进行雕刻。

7.根据权利要求6所述的一种大理石影雕快速走刀雕刻系统，其特征在于，在像素点扫描模块中，按照之字形路线逐行扫描影雕二值化图案中的像素点，并记录每一行的白色像素点位置、数量，得到每一行待雕刻的白色像素点集合。

8.根据权利要求6所述的一种大理石影雕快速走刀雕刻系统，其特征在于，刀具轨迹生成模块以影雕二值化图案的左上角作为起点，根据每一行待雕刻的白色像素点集合生成刀具轨迹。