[发明专利]聚酰亚胺系膜在审
| 申请号: | 202211483712.4 | 申请日: | 2022-11-24 |
| 公开(公告)号: | CN116178713A | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
| 发明(设计)人: | 塚田洋行;小沼勇辅;高田敦弘;桑崎直人 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
| 主分类号: | C08G73/10 | 分类号: | C08G73/10;C08J5/18;C08L79/08;H05K1/03;B32B27/28;B32B15/08;B32B15/00 |
| 代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 焦成美 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 聚酰亚胺 | ||
1.聚酰亚胺系膜,其包含含有来自四羧酸酐的结构单元(A)和来自二胺的结构单元(B)的聚酰亚胺系树脂,所述聚酰亚胺系膜的式1所定义的面内取向指数为58以上,
面内取向指数=[(180-FWHM)/180]×100(式1)
式1中,FWHM表示在2θ=16°的方位角分布中、在与所述膜的ND方向对应的方位角处出现的峰的半峰宽,所述方位角分布是通过透射法X射线衍射测定的二维衍射图像的解析得到的,所述二维衍射图像是与所述膜的TD方向平行地射入X射线而测定的。
2.如权利要求1所述的聚酰亚胺系膜,所述聚酰亚胺系膜的由式2表示的分子周期性指数为7.0以上,
分子周期性指数=I(16°)/I(min)(式2)
式2中,I(16°)表示通过反射法X射线衍射测定而得到的衍射强度分布中2θ1=15.5~16.5°处的衍射强度的最大值,
I(min)表示通过反射法X射线衍射测定而得到的衍射强度分布中2θ1=20~30°处的衍射强度的最小值。
3.如权利要求1或2所述的聚酰亚胺系膜,所述聚酰亚胺系膜的由式3定义的面内各向异性指数A为0.8以上1.2以下,由式4定义的面内各向异性指数B大于1.1,
面内各向异性指数A=I(MD)/I(TD)(式3)
面内各向异性指数B=I(MAX)/I(MIN)(式4)
式3及式4中,在2θ2=16°的方位角分布中,I(MD)表示与所述膜的MD方向对应的衍射强度,I(TD)表示与TD方向对应的衍射强度,I(MAX)表示衍射强度的最大值,I(MIN)表示衍射强度的最小值,所述方位角分布是通过透射法X射线衍射测定的二维衍射图像的解析得到的,所述二维衍射图像是与所述膜的ND方向平行地射入X射线而测定的。
4.如权利要求1~3中任一项所述的聚酰亚胺系膜,其中,所述结构单元(A)包含来自含有酯键的四羧酸酐的结构单元(A1)。
5.如权利要求1~4中任一项所述的聚酰亚胺系膜,其中,所述结构单元(A)包含来自含有联苯骨架的四羧酸酐的结构单元(A2)。
6.如权利要求5所述的聚酰亚胺系膜,其中,所述结构单元(A)满足式(X)的关系,
(除所述结构单元(A1)及所述结构单元(A2)以外的来自四羧酸酐的结构单元的含量)/(所述结构单元(A1)及所述结构单元(A2)的总量)1.1(X)。
7.如权利要求4~6中任一项所述的聚酰亚胺系膜,其中,所述结构单元(A1)为来自式(a1)表示的四羧酸酐的结构单元(a1),
式(a1)中,Z表示2价有机基团,
Ra1彼此独立地表示卤素原子、或者可具有卤素原子的烷基、烷氧基、芳基或芳基氧基,
s彼此独立地表示0~3的整数。
8.如权利要求5~7中任一项所述的聚酰亚胺系膜,其中,所述结构单元(A2)为来自式(a2)表示的四羧酸酐的结构单元(a2),
式(a2)中,Ra2彼此独立地表示卤素原子、或者可具有卤素原子的烷基、烷氧基、芳基或芳基氧基,
t彼此独立地表示0~3的整数。
9.如权利要求1~8中任一项所述的聚酰亚胺系膜,其中,所述结构单元(B)包含来自含有联苯骨架的二胺的结构单元(B1)。
10.如权利要求9所述的聚酰亚胺系膜,其中,所述结构单元(B1)为来自式(b1)表示的二胺的结构单元(b1),
式(b1)中,Rb1彼此独立地表示卤素原子、或者可具有卤素原子的烷基、烷氧基、芳基或芳基氧基,
p表示0~4的整数。
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