[发明专利]一种基于LNOI材料的窄波束光学相控阵输出光栅在审
| 申请号： | 202211428806.1 | 申请日： | 2022-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN115903109A | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 时尧成;郑书航;宋锦涛;袁恺旸 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B6/12;G02B6/124;G02B1/02 |
| 代理公司： | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人： | 朱月芬 |
| 地址： | 310000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 基于 lnoi 材料 波束 光学 相控阵 输出 光栅 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于LNOI材料的窄波束光学相控阵输出光栅，其特征在于：由下至上包括支撑衬底层(1)、绝缘层(2)、LN波导层(3)和上包层(4)；
所述LN波导层(3)由输入波导(5)、周期光栅波导(6)组成；当光以TE模式经输入波导(5)输入时，其在周期光栅波导(6)被耦合到自由空间，在远场形成特定角度的窄扫描光束。
2.根据权利要求1所述的一种基于LNOI材料的窄波束光学相控阵输出光栅，其特征在于：
所述支撑衬底层(1)为硅层，厚度为300～800μm；
所述绝缘层(2)为二氧化硅层，厚度为2～3μm，用于防止光泄露至所述支撑衬底层中；
所述LN波导层(3)选用铌酸锂材料，厚度为600nm，波导宽度为1.2μm，o光折射率为2.211，e光折射率为2.138；
所述上包层(4)为二氧化硅层，厚度为2μm。
3.根据权利要求1或2所述一种基于LNOI材料的窄波束光学相控阵输出光栅，其特征在于：采用二次浅刻蚀结构(7)，浅刻蚀结构的周期长度为0.9μm，占空比为0.5，能够有效避免远场旁瓣。
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