[发明专利]一种含双氰基耐晒型蒽醌分散染料及其制备方法有效
| 申请号: | 202211302845.7 | 申请日: | 2022-10-24 |
| 公开(公告)号: | CN115521636B | 公开(公告)日: | 2023-06-30 |
| 发明(设计)人: | 沈建明;戚栋明;崔志华;朱涛;黄俊峰 | 申请(专利权)人: | 浙江博澳新材料股份有限公司;现代纺织技术创新中心(鉴湖实验室);浙江理工大学;浙江理工大学上虞工业技术研究院有限公司 |
| 主分类号: | C09B5/24 | 分类号: | C09B5/24;C07D209/58 |
| 代理公司: | 杭州中成专利事务所有限公司 33212 | 代理人: | 金祺 |
| 地址: | 312369 浙江省绍兴*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 含双氰基耐晒型蒽醌 分散染料 及其 制备 方法 | ||
本发明属于化工领域,具体涉及一种含双氰基耐晒型蒽醌分散染料及其制备方法。本发明的含双氰基耐晒型蒽醌分散染料的结构通式为:其制备方法为包括如下步骤:将N,N‑二氰乙基衍生物和1,4‑二氨基蒽醌‑2,3‑二羧酸酐溶于DMF中,升温至105~110℃搅拌反应3~5小时,得目标分散染料溶液;将目标分散染料溶液进行后处理,得耐晒型蒽醌分散染料。本发明的分散染料具有更高上染率、耐洗色牢度和耐晒牢度的特点。
技术领域
本发明属于化工领域,具体涉及一种含双氰基耐晒型蒽醌分散染料及其制备方法。
技术背景
分散染料根据化学结构可分为偶氮型和蒽醌型两类,蒽醌型分散染料是除了偶氮染料以外用量最大的染料,具有色泽鲜艳、稳定、耐晒、牢度好等特点。但是,随着近代印染工业染料应用越来越广泛,人们对染料耐晒牢度的要求不断提高,传统蒽醌型分散染料品种已经难以满足部分特殊环境下染料的耐晒牢度要求。
蒽醌分散染料光褪色过程是一个非常复杂的过程,根据机理可分为光氧化褪色和光还原褪色。两种褪色机理均跟染料分子结构有密切关系,染料的耐晒牢度与染料的发色体结构以及紫外线照射等因素有关。一般认为,蒽醌结构中氨基电子云密度越高,就越容易氧化成羟胺,造成耐晒牢度降低。因此,常规的方法是在蒽醌型分散染料氨基的邻位上引入吸电子基团,降低氨基的电子云密度,从而提高染料的耐晒牢度。
201610046791.0的发明《一种1,4-二氨基-2,3-二氰基蒽醌的制备方法》提供了一种蒽醌氨基邻位上直接引入氰基的染料,但由于氰基的强吸电性,染料色光发生了偏移,不是纯色的蓝色染料,且染色性能较差。
201010142513.8的发明《一种分散蓝60及其同系物的制备方法》提供了一种耐晒牢度(7级)较好的蒽醌型分散染料C.I.分散蓝60,能够满足大部分常规纺织品对耐晒牢度的应用要求。但是,C.I.分散蓝60仍无法满足特殊环境下纺织品的耐晒牢度要求。
202111316457X的发明《耐晒型蒽醌分散染料及其制备方法》提供了两种耐晒型蒽醌分散染料,其分子结构中含有受阻胺光稳定片段,具有优良的耐晒牢度。但是,由于其耐洗色牢度较差,仍无法满足部分纺织品的耐洗色牢度要求。
发明内容
本发明解决的技术问题是提供一种耐晒型蒽醌分散染料及其制备方法,该分散染料具有更高上染率、耐洗色牢度和耐晒牢度的特点。
为了解决上述技术问题,本发明提供一种含双氰基耐晒型蒽醌分散染料,其分子结构通式如下:
式中:R为-CH2-CH2-或
作为本发明的耐晒型蒽醌分散染料的进一步改进,该分散染料的结构式为以下任一:
本发明还同时提供了上述耐晒型蒽醌分散染料的制备方法,包括如下步骤:
1)、将N,N-二氰乙基衍生物和1,4-二氨基蒽醌-2,3-二羧酸酐溶于DMF中,升温至105~110℃搅拌反应3~5小时,得目标分散染料溶液;
所述N,N-二氰乙基衍生物与1,4-二氨基蒽醌-2,3-二羧酸酐的摩尔比为3:2;
2)、将步骤1)所到的目标分散染料溶液进行后处理,得耐晒型蒽醌分散染料。
具体为:
在步骤1)所到的目标分散染料溶液中加入乙醇进行离析,降温至25±5℃后抽滤,滤饼用乙醇洗涤后,再用热水(约60~70℃)洗净、烘干(80℃下烘干至恒重),得到成品---耐晒型蒽醌分散染料。
发明的反应式如下:
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