[发明专利]一种铜源异质结纳米抗菌剂及其制备方法和应用在审
| 申请号: | 202211168104.4 | 申请日: | 2022-09-23 |
| 公开(公告)号: | CN115671280A | 公开(公告)日: | 2023-02-03 |
| 发明(设计)人: | 周民;何健;姚克;叶洋 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
| 主分类号: | A61K41/00 | 分类号: | A61K41/00;A61K33/38;A61K33/34;A61P27/02;A61P31/02;A61P31/04;A61P31/10;A61P17/02;A61K49/22;B22F9/24 |
| 代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 万尾甜;韩介梅 |
| 地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 铜源异质结 纳米 抗菌剂 及其 制备 方法 应用 | ||
1.一种铜源异质结纳米抗菌剂的制备方法,其特征在于,包括:
1)将用高分子模板合成的氧化亚铜纳米颗粒均匀分散在水中;
2)将硝酸银水溶液加入至1)得到的氧化亚铜纳米颗粒溶液中,室温下搅拌进行混合反应,得到铜源纳米异质结颗粒溶液;
3)向所得到的铜源纳米异质结颗粒溶液中加入表面修饰剂进行表面涂层修饰;
4)反应后,离心、洗涤去除多余未反应材料,得到涂层修饰的铜源纳米异质结颗粒,或再将其与辅料混合,得到铜源异质结纳米抗菌剂。
2.根据权利要求1所述的铜源异质结纳米抗菌剂的制备方法,其特征在于,所述的用高分子模板合成的氧化亚铜纳米颗粒,其制备方法包括如下:
将高分子模板分散在水中,质量浓度为0.5-2%,再将0.1-1M的可溶性铜源溶液滴加至其中,800-1200rpm搅拌至少30min后,滴加质量分数85%水合肼溶液反应1-60min,离心,清洗得到高分子模板合成的氧化亚铜纳米颗粒。
3.根据权利要求1所述的铜源异质结纳米抗菌剂的制备方法,其特征在于,所述的高分子模板为聚乙烯吡咯烷酮,透明质酸钠,多孔二氧化硅,脂质体,树状高分子中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的铜源异质结纳米抗菌剂的制备方法,其特征在于,所述的银与铜的质量浓度比为0.01-5:1。
5.根据权利要求1所述的铜源异质结纳米抗菌剂的制备方法,其特征在于,所述表面修饰剂为乙二胺四乙酸、酒石酸、羟乙基乙二胺三乙酸、多巴胺、透明质酸钠、聚乙烯醇、壳聚糖、海藻酸钠、海藻酸钙、明胶、纤维素衍生物中的一种或多种。
6.一种铜源异质结纳米抗菌剂,其特征在于,如权利要求1-5任一项所述的方法制得,所述抗菌剂含有由纳米氧化亚铜与纳米银形成的异质结纳米颗粒,所述抗菌剂具有近红外光吸收能力,在600nm以上的光学区域具有吸收,及NIR激光照射下具有光热转换能力。
7.根据权利要求6所述的铜源异质结纳米抗菌剂,其特征在于,所述抗菌剂中按质量百分比计,包括:1%~90wt%铜源纳米异质结颗粒、1%~30wt%表面修饰剂、0%~90wt%辅料。
8.根据权利要求6所述的铜源异质结纳米抗菌剂,其特征在于,所述NIR激光波长为808nm、980nm、或1064nm。
9.如权利要求6所述的铜源异质结纳米抗菌剂的用途,其特征在于,所述抗菌剂用于制备破坏微生物细胞壁或生物膜、杀灭微生物和/或促进感染性伤口愈合的药物。
10.如权利要求6所述的铜源异质结纳米抗菌剂的用途,其特征在于,所述抗菌剂作为光学相干层析成像和/或光声成像的造影剂。
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