[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法

说明书

本发明提供了曝光装置以及物品的制造方法。本发明提供能够维持每单位时间处理量的提高并且以小型且简单的构造精度良好地调整调焦的曝光装置。本发明涉及的曝光装置，以将形成于原版的第一图案分别转印到基板的基板面上的多个投射格的方式分别对多个投射格进行曝光，所述曝光装置的特征在于，具备：具有多个通道的测量部，所述多个通道各自测量多个投射格的既定的位置的表面高度；以及控制部，其基于在多个组中的既定的组中计算出的所述表面高度的偏移值来调整所述基板面的位置，所述多个投射格基于所述基板面上的所述多个投射格的配置信息和所述测量部的所述多个通道的配置信息而被分类成所述多个组。

技术领域

本发明涉及曝光装置以及物品的制造方法。

背景技术

以往，已知在曝光装置中有时会因基板上的投射格(shot)的尺寸、布置而使各投射格的表面高度的测量值互不相同，在投射格间会产生调焦(focus)的测量值的误差。

专利文献1公开了一种曝光装置，该曝光装置基于基板上的投射格的尺寸、布置的信息，变更该测量区域的大小使得表面高度的测量区域内的测量点在投射格间相互相同，由此降低该误差。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2006-275555号公报

发明内容

发明所要解决的问题

另一方面，也已知具备多点调焦传感器的曝光装置，为了提高进行调焦测量时的每单位时间处理量，该多点调焦传感器具有用于同时对基板上的多个位置的表面高度、即调焦进行测量的多个传感器通道。

考虑如下情况：在该曝光装置中，使用投射格的尺寸小于多点调焦传感器的测量区域并且投射格布置不是栅格状的基板。

在那样的情况下，在对已经在该基板形成有图案的各投射格测量表面高度的情况下，在投射格间对调焦的测量值会互不相同。

而且，为了降低根据那样的基板上的投射格的尺寸、布置而产生的投射格间的调焦的测量值的误差，如果使用专利文献1公开的技术，则需要变更多个传感器通道间的距离、配置。

为了在多点调焦传感器中变更多个传感器通道间的距离、配置，会导致构造复杂化并且大型化。

在此本发明的目的在于提供能够维持每单位时间处理量的提高并且能够以小型且简单的构造来精度良好地对调焦进行调整的曝光装置。

用于解决问题的方案

本发明涉及的曝光装置以将形成于原版的第一图案分别转印到基板的基板面上的多个投射格的方式分别对多个投射格进行曝光，所述曝光装置的特征在于，具备：具有多个通道的测量部，所述多个通道各自测量多个投射格的既定的位置的表面高度；以及控制部，其基于在多个组中的既定的组中计算出的所述表面高度的偏移值来调整所述基板面的位置，所述多个投射格基于所述基板面上的所述多个投射格的配置信息和所述测量部的所述多个通道的配置信息而被分类成所述多个组。

发明的效果

根据本发明，能够提供能够维持每单位时间处理量的提高并且以小型且简单的构造精度良好地对调焦进行调整的曝光装置。

附图说明

图1是第一实施方式涉及的曝光装置的示意性的剖视图。

图2是从上方观察第一实施方式涉及的曝光装置中使用的晶圆的局部放大示意图。

图3是示出晶圆上的投射格布置以及采样投射格与调焦测量区域之间的配置关系的例子的图。

图4是示出晶圆上的投射格布置以及采样投射格与调焦测量区域之间的配置关系的其它例子的图。