[发明专利]曝光装置以及物品的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，以将形成于原版的第一图案分别转印到基板的基板面上的多个投射格的方式分别对所述多个投射格进行曝光，所述曝光装置的特征在于，具备：

具有多个通道的测量部，所述多个通道各自测量所述多个投射格的既定的位置的表面高度；以及

控制部，其基于在多个组中的既定的组中计算出的所述表面高度的偏移值来调整所述基板面的位置，

所述多个投射格基于所述基板面上的所述多个投射格的配置信息和所述测量部的所述多个通道的配置信息而被分类成所述多个组。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

在要对既定的投射格进行所述曝光时，所述控制部使所述测量部测量所述表面高度，

所述控制部基于根据该测量获取到的所述表面高度的测量值和在所述既定的投射格被分类于的所述既定的组中计算出的所述表面高度的偏移值，来进行所述调整。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部基于所述基板上的所述多个投射格的配置信息和所述测量部的所述多个通道的配置信息，来将所述多个投射格分类成所述多个组，

所述控制部对所述多个组中的各个组，使所述测量部对于至少一个投射格测量所述表面高度，由此计算所述表面高度的偏移值。

4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，

所述控制部在使所述测量部对于所述多个投射格分别测量所述表面高度时，基于所述基板上的所述多个投射格的配置信息和所述测量部的所述多个通道的配置信息，来决定所述多个通道各自要测量所述表面高度的位置所处的投射格以及该投射格内的坐标，

所述控制部将所决定的坐标相互相同的所述投射格分类于相同的所述组。

5.根据权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述曝光装置具备投影光学系，所述投影光学系将通过了所述原版的曝光光引导至所述基板，

所述控制部基于在进行所述曝光时形成于所述原版的所述第一图案配置的位置与所述投影光学系的光轴之间的距离来进行所述决定。

6.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

在被转印到所述投射格的第二图案上，转印所述第一图案。

7.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

在与所述基板面平行的既定的方向中，最远离的所述通道间的距离大于所述投射格的宽度。

8.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述多个投射格的配置信息包括：所述多个投射格各自的大小的信息；以及相互邻接的所述投射格间的位置关系的信息，

所述多个通道的配置信息包括：基于分别在与所述基板面平行的平面内的相互正交的第一方向以及第二方向中最远离的所述通道间的第一距离以及第二距离而划定的测量区域的大小的信息；以及该测量区域内的各通道的坐标的信息。

9.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，

所述曝光装置具备用于载置所述基板的基板载置台，

所述控制部变更与所述基板面垂直的方向中的该基板载置台的位置、分别绕与所述基板面平行的平面内的相互正交的第一方向以及第二方向旋转的该基板载置台的角度，由此进行所述调整。

10.一种物品的制造方法，其特征在于，包括：

使用权利要求1至9中的任一项所述的曝光装置对所述基板进行曝光的工序；

使进行了曝光的所述基板显影的工序；以及

对进行了显影的所述基板进行加工来获得物品的工序。