[发明专利]衍射光波导结构

权利要求书

1.一种衍射光波导结构，其特征在于，包括：

光波导片(10)；

耦入元件(30)，所述耦入元件(30)设置在所述光波导片(10)的一侧表面上，所述耦入元件(30)为反射式耦入元件(30)；

膜层结构(20)，所述膜层结构(20)设置在所述耦入元件(30)上，且位于所述耦入元件(30)远离所述光波导片(10)的一侧，所述膜层结构(20)的至少一部分填充在所述耦入元件(30)的间隙中，所述膜层结构(20)沿远离所述耦入元件(30)方向依次包括金属层(21)和保护层(23)。

2.根据权利要求1所述的衍射光波导结构，其特征在于，所述膜层结构(20)还包括介质层(22)，所述介质层(22)位于所述金属层(21)与所述保护层(23)之间。

3.根据权利要求1所述的衍射光波导结构，其特征在于，所述耦入元件(30)远离所述光波导片(10)的一侧表面为具有凹凸结构的表面，所述金属层(21)随形覆盖在所述凹凸结构的表面上，以使所述金属层(21)形成具有同样所述凹凸结构的表面，所述金属层(21)各个位置的厚度均相等。

4.根据权利要求3所述的衍射光波导结构，其特征在于，所述保护层(23)朝向所述金属层(21)的一侧随形覆盖在所述金属层(21)的凹凸结构的表面上，以使所述保护层(23)朝向所述金属层(21)的一侧具有与所述金属层(21)同样的所述凹凸结构的表面，所述保护层(23)远离所述金属层(21)的一侧表面为平面。

5.根据权利要求2所述的衍射光波导结构，其特征在于，所述耦入元件(30)远离所述光波导片(10)的一侧表面为具有凹凸结构的表面，所述金属层(21)随形覆盖在所述耦入元件(30)具有所述凹凸结构的表面上，以使所述金属层(21)形成具有同样所述凹凸结构的表面，所述金属层(21)各个位置的厚度均相等；所述介质层(22)随形覆盖在所述金属层(21)的凹凸结构的表面上，以使所述介质层(22)形成具有同样所述凹凸结构的表面，所述保护层(23)朝向所述介质层(22)的一侧随形覆盖在所述介质层(22)的凹凸结构的表面上，以使所述保护层(23)朝向所述介质层(22)的一侧具有与所述介质层(22)同样的所述凹凸结构的表面，所述保护层(23)远离所述金属层(21)的一侧表面为平面。

6.根据权利要求1所述的衍射光波导结构，其特征在于，所述耦入元件(30)远离所述光波导片(10)的一侧表面为具有凹凸结构的表面，所述金属层(21)朝向所述耦入元件(30)的一侧随形覆盖在所述耦入元件(30)具有所述凹凸结构的表面上，以使所述金属层(21)朝向所述耦入元件(30)的一侧形成具有同样所述凹凸结构的表面，所述金属层(21)远离所述耦入元件(30)的一侧表面为平面。

7.根据权利要求6所述的衍射光波导结构，其特征在于，所述膜层结构(20)还包括介质层(22)，所述介质层(22)设置在所述金属层(21)与所述保护层(23)之间，所述介质层(22)的两侧表面均为平面，所述保护层(23)的两侧表面均为平面。

8.根据权利要求1所述的衍射光波导结构，其特征在于，所述衍射光波导结构还包括转折元件(40)和耦出元件(50)，所述转折元件(40)和所述耦出元件(50)分别设置在所述光波导片(10)的两侧表面，且所述转折元件(40)在所述光波导片(10)上的投影与所述耦出元件(50)在所述光波导片(10)上的投影对应设置。

9.根据权利要求2所述的衍射光波导结构，其特征在于，

所述介质层(22)的折射率小于等于所述耦入元件(30)的折射率；和/或

所述介质层(22)的材料为Al₂O₃和SiO₂中的一种；和/或

所述介质层(22)的厚度大于等于50nm且小于等于200nm。

10.根据权利要求1所述的衍射光波导结构，其特征在于，

所述金属层(21)的材料为Ag、Al、Pt和Au中的一种；和/或

所述金属层(21)的厚度大于等于100nm且小于等于300nm。