[发明专利]一种基于反向校正标定的晶片位姿回正方法在审
| 申请号: | 202210721222.7 | 申请日: | 2022-06-22 |
| 公开(公告)号: | CN115100291A | 公开(公告)日: | 2022-09-23 |
| 发明(设计)人: | 周向东;宋宝;张翔;唐小琦;刘永兴;李君;卢慧锋;王小柏;高天赐 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
| 主分类号: | G06T7/80 | 分类号: | G06T7/80;G06T7/73;G06T3/60 |
| 代理公司: | 武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人: | 万畅 |
| 地址: | 430000 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 反向 校正 标定 晶片 位姿回正 方法 | ||
1.一种基于反向校正标定的晶片位姿回正方法,其特征在于,所述晶片位姿回正方法包括:
步骤1,初步标定得到机台旋转初始中心在机台坐标系中的坐标,得到所述机台旋转初始中心和图像坐标系中心在x轴和y轴的初始偏差距离initoffx和initoffy,并对所述initoffx和initoffy分别进行反向校正得到初始偏差coroffx和coroffy;
步骤2,对于已知偏角和偏差距离的偏斜晶片,基于所述初始偏差coroffx和coroffy得到所述偏斜晶片回正到所述图像坐标系中心的机台旋转角度和平移距离;
步骤3,基于所述机台旋转角度和平移距离对所述偏斜晶片进行旋转和平移的回正。
2.根据权利要求1所述的晶片位姿回正方法,其特征在于,所述步骤1中包括:
步骤101,在图像坐标系中选择点C1,旋转转台得到点C1经过的点C2和点C3;
基于圆弧上点C1、点C2和点C3的坐标求圆心坐标,该圆心坐标为所述机台旋转初始中心在机台坐标系中的坐标(x,y);
机台和晶圆台的x移动轴和y移动轴都位于零点时,所述机台旋转中心和所述图像坐标系中心在x轴的初始偏差距离initoffx=x,在y轴的初始偏差距离initoffy=y。
步骤102,旋转转台,根据旋转前所述图像坐标系中心在所述机台坐标系中的位置O1(XO1,YO1)、旋转后所述图像坐标系中心在所述机台坐标系中的位置B(XB,YB)以及所述偏斜晶片的偏角α和偏差距离(offAx,offAy),计算机台旋转中心在机台坐标系中的实际位置O2(XO2,YO2),即为校正后的机台旋转中心和图像坐标系中心的所述初始偏差coroffx、coroffy。
3.根据权利要求2所述的晶片位姿回正方法,其特征在于,所述步骤101中,所述机台旋转初始中心在机台坐标系中的坐标(x,y)的计算公式为:
其中,(x1,y1)、(x2,y2)和(x3,y3)分别为点C1、点C2和点C3的坐标。
4.根据权利要求2所述的晶片位姿回正方法,其特征在于,所述步骤102中,所述机台旋转中心O2在机台坐标系中的坐标(XO2,YO2)的计算公式如下:
其中,(XA,YA)为旋转前所述偏斜晶片在所述机台坐标系中的位置A的坐标,(XA,YA)=(XO1+offAx,YO1+offAy);
(XC,YC)为旋转后所述偏斜晶片在所述机台坐标系中的实际位置C的坐标,(XC,YC)=(XB+offCx,YB+offCy);
(offCx,offCy)为所述偏斜晶片回正后的实际偏差距离。
5.根据权利要求1所述的晶片位姿回正方法,其特征在于,所述步骤2包括:
步骤201,根据旋转后图像坐标系中心在机台坐标系的位置(posx,posy)以及所述偏斜晶片的偏角α和偏差距离(offAx,offAy),计算所述偏斜晶片在机台坐标系中的坐标(x`,y`)和偏角α`;
步骤202,根据在机台坐标系中所述实际位置O2(XO2,YO2)以及所述偏斜晶片的坐标(x`,y`)和偏角α`,计算得到所述偏斜晶片在机台坐标系中的坐标(x旋,y旋),根据坐标(x旋,y旋)计算所述偏斜晶片进行回正的旋转公式,最后计算旋转后的晶片在机台坐标系中的坐标(x,y)。
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