[发明专利]一种秘色瓷原料及烧制方法

权利要求书

1.一种秘色瓷原料，其特征在于，包括坯体原料和釉料原料，所述坯体原料按重量百分比包括如下组分：二氧化硅60％-70％,三氧化二铝20％-30％,氧化钾4％-8％，三氧化二铁1.8％-3.2％，氧化镁0.3％-0.5％，氧化钠0.15％-0.2％，氧化钛0.15％-0.3％，氧化钙0.07％-0.12％，二氧化锰0.03％-0.15％，五氧化二磷0.01％-0.5％；所述釉料原料按重量百分比包括如下组分：二氧化硅65％-78％，三氧化二铝7％-13％，氧化钙7％-12％，氧化钾3％-6％，五氧化二磷3％-5％，三氧化二铁1％-3％，氧化钠0.1％-0.5％，氧化镁0.1％-0.4％，氧化钛0.08％-0.25％,二氧化锰0.03％-0.08％。

2.根据权利要求1所述的秘色瓷原料，其特征在于，所述坯体原料和所述釉料原料的平均颗粒尺寸不低于180目。

3.根据权利要求1所述的秘色瓷原料，其特征在于，所述五氧化二磷的平均颗粒尺寸不低于250目。

4.根据权利要求1所述的秘色瓷原料，其特征在于，所述三氧化二铝的平均颗粒尺寸不低于1000目。

5.一种秘色瓷烧制方法，使用如权利要求1-4任一项所述的秘色瓷原料烧制，其特征在于，包括坯体制备、釉料制备、施釉、烧成工序，其中，所述坯体使用所述秘色瓷原料中的坯体原料制备得到，所述釉料使用所述秘色瓷原料中的釉料原料制备得到，所述烧成工序包括：

步骤S1：将施釉完毕的坯体置入窑炉中，烧制3-5小时，将窑温从常温升至525-575℃；

步骤S2：继续烧制2-3小时，将窑温升至950-1000℃后保温1-2小时；

步骤S3：使用还原焰烧制1-2小时，将窑温升至1120-1130℃；

步骤S4：加重还原焰，继续烧制1-2小时，将窑温升至1140-1150℃后保温1-2小时；

步骤S5：将火焰转为氧化焰，缓慢降温3-5小时，直至将窑温降至800-850℃，停火并自然冷却，烧成完毕。

6.根据权利要求5所述的秘色瓷烧制方法，其特征在于，所述坯体制备工序包括：

采集蛏子泥，淘洗并球磨，出浆后晒干，得到坯体原料；

向所述坯体原料中加水调和，可塑成型后晾干，得到素坯；

对所述素坯进行素烧，得到坯体。

7.根据权利要求6所述的秘色瓷烧制方法，其特征在于，所述素烧的过程包括：将所述素坯置入窑炉中，使用所述氧化焰烧制3-5小时，将窑温从常温升至530-550℃，继续烧制2-3小时，将窑温升至1050-1100℃，保温20-40min后自然冷却至室温。

8.根据权利要求5所述的秘色瓷烧制方法，其特征在于，所述釉料制备工序包括：使用松木烧制草木灰，将所述草木灰与蛏子泥和矿物原料混合，加水调和，得到釉料。

9.根据权利要求8所述的秘色瓷烧制方法，其特征在于，所述釉料的浓度为48-52婆梅氏度。

10.根据权利要求5所述的秘色瓷烧制方法，其特征在于，所述施釉工序包括浸釉、喷釉、刷釉、涂釉、淋釉中的一种或几种，且施釉后所述釉料的厚度不超过1mm。