[发明专利]一种降低异氰酸酯溶剂单耗的连续制备装置及其制备方法

说明书

本发明公开了一种降低异氰酸酯溶剂单耗的连续制备装置及其制备方法，包括反应釜，环形方管，其设置在反应釜的内部，所述环形方管的上方固定安装有进液管，且进液管穿出反应釜的内部，所述环形方管的下方固定安装有支流管，所述支流管的下方固定安装有雾化喷头；分散筒，其设置在环形方管下方的中间，所述分散筒的内部固定安装有接杆，且接杆贯穿分散筒，所述接杆的上方固定安装有转轴，且转轴与反应釜转动连接。其实现了二胺盐酸盐溶液能充分与光气接触进行反应的能力，从而解决了在异氰酸酯制备时，二胺盐酸盐溶液不能充分与光气接触进行反应，导致了光气的额外消耗，造成了资源的浪费的问题。

技术领域

本发明涉及异氰酸酯制备技术领域，具体为一种降低异氰酸酯溶剂单耗的连续制备装置及其制备方法。

背景技术

异氰酸酯是异氰酸的各种酯的总称，用于家电、汽车、建筑、鞋业、家具、胶粘剂等行业，目前异氰酸酯的制备常采用的二胺盐酸盐溶液输送到光化反应釜，与光气在常压或加压条件下反应，得到含有异氰酸酯的高浓度异氰酸酯光化液；

例如公开号为CN112516953A的专利(一种连续制备异氰酸酯的设备)：包括基板、侧板和顶板，所述基板上表面固定安装有侧板，所述侧板上表面固定安装有顶板，所述基板上表面转动安装有反应桶，所述基板上表面位于反应桶的对应位置固定安装有转动装置，所述反应桶顶端插接安装有输料管，且输料管与顶板插接安装，所述输料管内壁固定安装有计量器，所述输料管外壁位于计量器的一端固定安装有电磁阀；

上述现有技术虽然方便对异氰酸酯进行制备，但是是将二胺盐酸盐溶液直接整体导入反应釜内，因此在异氰酸酯制备时，二胺盐酸盐溶液不能充分与光气接触进行反应，导致了光气的额外消耗，造成了资源的浪费；因此市场急需研制一种降低异氰酸酯溶剂单耗的连续制备装置及其制备方法来帮助人们解决现有的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种降低异氰酸酯溶剂单耗的连续制备装置及其制备方法，以解决上述背景技术中提出的在异氰酸酯制备时，二胺盐酸盐溶液不能充分与光气接触进行反应，导致了光气的额外消耗，造成了资源的浪费的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种降低异氰酸酯溶剂单耗的连续制备装置，包括反应釜，

环形方管，其设置在反应釜的内部，所述环形方管的上方固定安装有进液管，且进液管穿出反应釜的内部，所述环形方管的下方固定安装有支流管，所述支流管的下方固定安装有雾化喷头；

分散筒，其设置在环形方管下方的中间，所述分散筒的内部固定安装有接杆，且接杆贯穿分散筒，所述接杆的上方固定安装有转轴，且转轴与反应釜转动连接。

优选的，所述反应釜的一侧固定安装有泵箱，所述泵箱的上方安装有第一导管，且第一导管插入反应釜的内部，所述第一导管的一端固定安装有除雾器，所述泵箱的下方安装有第二导管，且第二导管插入反应釜的内部，所述反应釜内部的底部安装有接液箱，且第二导管的末端伸入接液箱的内部。

优选的，所述接液箱的内部安装有阻断板，所述反应釜的下方安装有排放管，且排放管与接液箱连通，所述接液箱的一侧设置有支板，所述支板的一侧设置有排气管，且排气管穿出反应釜的内部。

优选的，所述反应釜的内部沿接液箱的上方安装有分隔板，所述分隔板的内部设置有下落孔，所述分隔板的下方安装有流液管，且流液管与下落孔连通。

优选的，所述反应釜的内部沿分隔板的上方设置有进气管，且进气管穿出反应釜的内部，所述进气管的上方设置有连接套，且连接套与接杆焊接连接，所述进气管穿进连接套的内部，所述连接套的内部沿进气管的外侧设置有套环，且套环与进气管焊接连接，所述套环的下方设置有垫环，且垫环与连接套通过螺钉固定连接。