[发明专利]一种低涡流损耗钕铁硼磁体在审
| 申请号: | 202210503926.7 | 申请日: | 2022-05-10 |
| 公开(公告)号: | CN114823025A | 公开(公告)日: | 2022-07-29 |
| 发明(设计)人: | 毛华云;黄治锋;刘侃;蔡华平;刘永;詹益街 | 申请(专利权)人: | 江西金力永磁科技股份有限公司 |
| 主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057 |
| 代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 刘乐 |
| 地址: | 341000 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 涡流 损耗 钕铁硼 磁体 | ||
1.一种开槽钕铁硼磁体,其特征在于,所述开槽钕铁硼磁体包括未经渗透处理的钕铁硼磁方块磁体;
以及设置在上述钕铁硼磁方块磁体表面上的槽;
所述槽中设置有重稀土浆料。
2.根据权利要求1所述的开槽钕铁硼磁体,其特征在于,所述槽的数量包括1个或多个;
所述槽的平面尺寸为0.05~1.0mm;
所述槽的深度为钕铁硼磁体厚度的1%~80%;
所述槽的形状包括矩形槽、V型槽、U型槽和圆形槽中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的开槽钕铁硼磁体,其特征在于,所述磁体表面的槽在磁体平面方向上,包括贯通槽和/或非贯通槽;
所述槽在磁体垂直方向上,为不贯通槽;
所述槽数量为多个时,槽与槽之间的间距包括等间距和/或不等间距;
所述间距为0.5~100mm。
4.根据权利要求1所述的开槽钕铁硼磁体,其特征在于,所述槽的长度方向与槽所在磁体平面的任意边的夹角为0°~90°;
所述开槽钕铁硼磁体具有槽的表面包括一个或多个。
5.根据权利要求1所述的开槽钕铁硼磁体,其特征在于,具有所述槽的表面包括垂直于钕铁硼磁体取向方向上的一个或多个表面,和/或,平行于钕铁硼磁体取向方向上的一个或多个表面;
所述开槽的方式包括多线开槽、电火花开槽、砂轮开槽、内圆切割开槽、外圆切割开槽和水刀切割开槽中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的开槽钕铁硼磁体,其特征在于,所述重稀土浆料包括重稀土材料和溶剂;
所述重稀土材料包括铽粉、氟化铽粉、镝粉、氟化镝粉以及含镝和/或铽的重稀土合金粉中一种或多种;
所述溶剂包括汽油、乙醇、丙烯酸和环氧漆中的一种或多种;
所述重稀土浆料中,重稀土材料和溶剂的质量比为1:(2~6)。
7.根据权利要求6所述的开槽钕铁硼磁体,其特征在于,所述重稀土合金粉的通式为HRE-X;
所述HRE包括Dy和/或Tb;
所述X包括Pr、Nd、Al、Cu、Ga、Ni、Co、Fe、Zr、Nb、Ti、Hf、W和V中的一种或多种。
8.一种钕铁硼磁体,其特征在于,所述钕铁硼磁体由权利要求1~7任意一项所述的开槽钕铁硼磁体经晶界扩散处理后得到。
9.根据权利要求8所述的钕铁硼磁体,其特征在于,所述晶界扩散处理包括在第一温度下进行热处理和第二温度下进行扩散处理;
所述第一温度为350~450℃;
所述热处理的时间为3~5h;
所述第二温度为710~1000℃;
所述扩散处理的时间为1~50h。
10.根据权利要求8所述的钕铁硼磁体,其特征在于,所述晶界扩散处理后还包括时效处理步骤;
所述时效处理的温度为400~600℃;
所述时效处理的时间为4~6h;
所述钕铁硼磁体为低涡流损耗钕铁硼磁体。
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