[发明专利]一种用于显示制程蚀刻废液的回收系统及方法

说明书

本发明提供一种用于显示制程蚀刻废液的回收系统及方法，包括依次连接的反应槽、螺旋回流槽，反应槽内含有蚀刻废液以及与蚀刻废液反应的阳离子无机添加剂，通过向反应槽中投入阳离子无机添加剂，得到絮凝物和絮凝后的蚀刻废液，然后根据蚀刻新液的配置要求，利用絮凝后的蚀刻废液配制蚀刻新液，配制的蚀刻新液提升了铜承载力，并可控制一定的反应速率，使得蚀刻液的生产满足生产的要求。

技术领域

本发明属于回收处理技术领域，具体涉及一种用于显示制程蚀刻废液的回收系统及方法。

背景技术

蚀刻液，是一种铜版画雕刻用原料。通过侵蚀材料的特性来进行雕刻的一种液体。目前被广泛应用于生产印刷线路板(PCB)的蚀刻工艺的蚀刻液包括碱性蚀刻液和酸性蚀刻液，酸性蚀刻液主要成分为氯化铜、盐酸、氯化钠和氯化铵，碱性蚀刻液主要成分为氯化铜、氨水、氯化铵，酸性蚀刻液和碱性蚀刻液对印刷线路板(PCB)蚀刻时产生蚀刻废液，如果不对蚀刻废液进行回收处理，不仅会对资源造成浪费，也会造成蚀刻废液中的铜离子等金属离子以及酸碱性等物质直接排放到水中对环境造成污染。

现有技术中对蚀刻废液进行回收处理时，回收得到的蚀刻废液配制成新液后的蚀刻液铜承载力和蚀刻速率变差，降低蚀刻液蚀刻效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种用于显示制程蚀刻废液的回收系统及方法，以解决上述背景技术中提出的回收得到的蚀刻废液配制成新液后的蚀刻液铜承载力和蚀刻速率变差的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种用于显示制程蚀刻废液的回收系统，包括依次连接的反应槽、螺旋回流槽，所述反应槽内含有与蚀刻废液反应的阳离子无机添加剂。

作为进一步的改进，还包括与螺旋回流槽连接的过滤系统。

一种用于显示制程蚀刻废液的回收方法，其特征在于：包括以下步骤：

步骤1：将蚀刻废液输送入反应槽，并向反应槽中投入阳离子无机添加剂，对蚀刻废液处理；

步骤2：将步骤1中的蚀刻废液输送入螺旋回流槽，进行沉降分离，得到产成品。

作为进一步的改进，将步骤2中螺旋回流槽中的沉降物通过过滤系统，进行过滤，得到产成品，过滤系统的设置，可以将螺旋回流槽中的沉降物和蚀刻废液进行过滤，沉降物过滤出来后进行滤渣外运，用于其他方面，过滤出来的蚀刻废液为产成品。

作为进一步的改进，所述阳离子无机添加剂包括单阳离子无机添加剂、多阳离子无机添加剂中的一种或者两种的组合。

作为进一步的改进，所述单阳离子无机添加剂包括聚硅酸类无机添加剂、聚磷酸类无机添加剂中的一种或者两种的组合。

作为进一步的改进，所述多阳离子无机添加剂包括聚合硫酸氯化铁铝。

作为进一步的改进，所述聚硅酸类无机添加剂包括聚硅酸、聚硅酸硫酸铁、聚硅酸铁、聚合聚铁硅中的一种或者几种的混合。

作为进一步的改进，所述聚磷酸类无机添加剂包括聚磷氯化铁、聚磷氯化铝中的一种或两种的混合。

作为进一步的改进，所述阳离子无机添加剂占蚀刻废液百分比质量为1％-6％。

作为进一步的改进，所述阳离子无机添加剂占蚀刻废液百分比质量的1.5％-4.5％。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明中提供的显示制程蚀刻废液的回收系统及方法，可以对蚀刻废液进行回收再利用，制成蚀刻新液，提高了蚀刻废液的使用寿命，并且避免蚀刻废液直接排放对环境造成污染；

另外显示制程蚀刻废液的回收系统及方法中通过阳离子无机添加剂的添加，不仅可以絮凝蚀刻废液中的杂质，还可以提升蚀刻废液铜承载力和控制蚀刻速率，使得回收的蚀刻废液作为蚀刻液配制的原料能够满足生产质量标准。

附图说明