[发明专利]无机石英石镜面抛光工艺在审
| 申请号： | 202210467431.3 | 申请日： | 2022-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN114770346A | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 陈炳林;吴志超 | 申请（专利权）人： | 佛山市晖锐新材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/06 | 分类号： | B24B29/06;B24B7/22;B24B27/00;B24B49/00;C09G1/02 |
| 代理公司： | 佛山市明高知识产权代理事务所(普通合伙) 44701 | 代理人： | 廖珍珍 |
| 地址： | 528000 广东省佛山市南海区狮山镇*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 无机 石英 石镜面 抛光 工艺 | ||
【权利要求书】：
1.无机石英石镜面抛光工艺，其特征在于，包括以下步骤：
a. 在无机石英石表面施加抛光剂，所述抛光剂包括重量百分比的各组分：硅溶胶 10~15%、甲基硅树脂 1~5%、乙二醇 3~7%、水溶性硅油1~3% 和余量水，用抛光机抛光1~2h，得到抛光后的无机石英石；
b．在抛光后的无机石英石表面均匀施加硅基材料，继续用抛光机抛光0.5~1h，得到镜面抛光的无机石英石。
2.根据权利要求1所述的无机石英石镜面抛光工艺，其特征在于：在水中依次加入硅溶胶、甲基硅树脂、乙二醇和水溶性硅油，搅拌均匀至无悬浮物，得到所述抛光剂。
3.根据权利要求1或2所述的无机石英石镜面抛光工艺，其特征在于：所述硅基材料为粒径5~10nm的SiO2。
4.根据权利要求1所述的无机石英石镜面抛光工艺，其特征在于：所述抛光机上设有4~8个磨盘，磨盘的直径为170~200mm，且磨盘上安装有直径一致的羊毛垫，羊毛垫的纤维尺寸为0.1mm~0.5mm。
5.根据权利要求4所述的无机石英石镜面抛光工艺，其特征在于：每个所述磨盘的负重为8~12kg，磨盘的转速为660~700r/s。
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