[发明专利]真空处理装置

权利要求书

1.一种真空处理装置，具备：

第一以及第二处理区域，在被保持于基板保持器的基板上进行既定的真空处理；

运送通路，以相对于铅直面的投影形状为连续的环状的方式形成，运送前述基板保持器；

基板保持器运送机构，沿前述运送通路运送具有第一以及第二被驱动部的多个前述基板保持器，

前述运送通路构成为，具有：第一运送部，使导入后的前述基板保持器以成为水平的状态沿前述运送通路向第一运送方向运送；第二运送部，使前述基板保持器以成为水平的状态沿前述运送通路向与前述第一运送方向相反方向的第二运送方向运送而排出；运送折返部，将前述基板保持器从前述第一运送部朝向前述第二运送部折返运送，前述第一运送部通过前述第一以及第二处理区域中的一方，并且前述第二运送部通过前述第一以及第二处理区域中的另一方，

前述基板保持器运送机构具有与前述基板保持器的第一被驱动部接触而沿前述运送通路驱动该基板保持器的多个第一驱动部，

在前述运送通路的运送折返部附近设置有方向转换机构，所述方向转换机构具有：多个第二驱动部，与前述基板保持器的第二被驱动部接触而将该基板保持器分别向前述第一以及第二运送方向驱动；第一以及第二方向转换通路，用于分别引导运送前述基板保持器的第一以及第二被驱动部以使该基板保持器从前述第一运送方向向前述第二运送方向进行方向转换，

构成为使前述基板保持器运送机构的第一驱动部和前述方向转换机构的第二驱动部同步地动作，将前述基板保持器的第一以及第二被驱动部沿前述方向转换机构的第一以及第二方向转换通路分别引导运送，从而将前述基板保持器以维持上下关系的状态从前述运送通路的第一运送部向第二运送部交付。

2.如权利要求1所述的真空处理装置，其特征在于，前述第一方向转换通路和前述第二方向转换通路形成为向前述第一运送方向侧凸出的相匹配的曲线形状。

3.如权利要求2所述的真空处理装置，其特征在于，前述第一方向转换通路和前述第二方向转换通路分别通过下述方式设置：以设置比前述基板保持器的第一被驱动部的直径稍大的间隙而对置的方式接近地设置一对引导部件。

4.如权利要求1至3的任意一项所述的真空处理装置，其特征在于，前述基板保持器的第一以及第二被驱动部设置为向正交于前述第一以及第二运送方向的方向延伸，该第一以及第二被驱动部的长度不同。

5.如权利要求1至3的任意一项所述的真空处理装置，其特征在于，前述方向转换机构关于前述第一以及第二运送方向而配置在前述基板保持器运送机构的外侧的位置。

6.如权利要求1至3的任意一项所述的真空处理装置，其特征在于，前述第一以及第二处理区域是在真空中进行成膜的区域。

7.如权利要求1至3的任意一项所述的真空处理装置，其特征在于，前述基板保持器构成为在正交于前述第一以及第二运送方向的方向上排列而保持多个成膜对象基板。