[发明专利]一种涂布液、减反射薄膜及其制备方法

权利要求书

1.一种涂布液，其特征在于，按质量百分比计，所述涂布液包括：

5％～10％的树脂；

1％～2.5％的硅酸锂溶胶；

0.5％～1.5％的固化剂；

88.5％～92％的水。

2.根据权利要求1所述的涂布液，其特征在于，所述硅酸锂溶胶选自一硅酸锂溶胶、二硅酸锂溶胶、五硅酸锂溶胶中的一种或多种复配。

3.根据权利要求1所述的涂布液，其特征在于，所述树脂包括阴离子透明抗静电树脂。

4.一种减反射薄膜，其特征在于，所述减反射薄膜包括：

基材；

减反射涂层，所述反射涂层设于所述基材的至少一表面，且所述减反射涂层由权利要求1～3任意一项所述的涂布液形成。

5.根据权利要求4所述的减反射薄膜，其特征在于，所述基材包括纳米母料和PET白切片，所述纳米母料和PET白切片的质量比为(0.05～0.15)：1。

6.根据权利要求5所述的减反射薄膜，其特征在于，所述纳米母料为含有纳米级二氧化硅颗粒的聚酯混合母料。

7.根据权利要求5所述的减反射薄膜，其特征在于，所述纳米母料为含有微粒填料的母料，所述微粒填料的平均直径为0.01～0.05μm。

8.根据权利要求4所述的减反射薄膜，其特征在于，所述基材包括三层共挤薄膜，所述三层共挤薄膜为ABA结构，其中，A为表层，B为芯层，所述表层包括纳米母料和PET白切片，所述纳米母料和PET白切片的质量比为(0.05～0.15)：1，所述芯层为PET白切片。

9.一种制备权利要求4～8任意一项所述减反射薄膜的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

S100，将基材进行纵向拉伸，进一步在纵向拉伸后的基材表面涂覆涂布液；

S200，将涂覆涂布液的基材进行横向拉伸，进一步对涂布液进行固化处理，形成减反射薄膜。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述基材通过如下步骤制备：

S101，将表层所需的纳米母料与PET白切片按照质量比为(0.05～0.15)：1混合均匀后加入到两台辅挤出机中进行熔融处理，同时将芯层所需的PET白切片送入主挤出机进行熔融处理；

S102，主挤出机及两台辅挤出机熔融后输送至共挤模头中进行挤出，形成三层熔体，三层熔体进一步进行静电吸附和冷却，形成所述基材。