[发明专利]衬底处理装置

说明书

一种能够检测气体泄漏的衬底处理装置，包括至少一个反应器；气体供应单元，其配置为向反应器供应气体；以及连接到气体供应单元的检测单元，其中检测单元配置为检测气体供应单元中的气体流动。

技术领域

一个或多个实施例涉及衬底处理装置，更具体地，涉及能够检测气体供应单元中的气体泄漏的衬底处理装置。

背景技术

半导体衬底处理装置包括处理衬底的衬底处理单元、向衬底处理单元供应原材料的原材料供应单元以及在原材料与衬底处理单元中的衬底反应之后排出处理单元中剩余的原材料的排出单元。衬底处理单元的一侧与原材料供应单元连通，衬底处理单元的另一侧与排出单元连通。更详细地，衬底处理单元可以是其上安装有衬底的反应器。原材料供应单元可以是气体供应单元。对于衬底处理，原材料通过原材料供应单元供应到衬底处理单元。原材料供应单元包括：能够控制原材料的流动用于平顺的衬底处理的多个控制装置，比如阀、质量流量控制器(MFC)、质量流量计(MFM)等；以及用作用于气体的流动路径的管道或块形式的气体流动路径。然而，当由于构成原材料供应单元的各种装置的缺陷或故障或者其中不同原材料混合在气体流动路径中的内部泄漏发生而导致原材料供应不当时，可能会产生过程故障。

发明内容

一个或多个实施例包括能够检测和监控原材料供应单元中的内部泄漏的装置和方法。

附加方面将在下面的描述中部分阐述，并且部分地将从描述中显而易见，或者可以通过实践本公开的所呈现的实施例来了解。

根据一个或多个实施例，一种衬底处理装置包括：至少一个反应器；气体供应单元，其配置为向反应器供应气体；以及检测单元，其连接到气体供应单元，其中检测单元可以配置为检测气体供应单元中的气体流动。

根据衬底处理装置的一示例，气体供应单元可以包括阀单元；连接到阀单元的隔膜；以及配置为由隔膜打开和关闭的气体流动路径。

根据衬底处理装置的另一示例，检测单元可以连接到气体流动路径的一端。

根据衬底处理装置的另一示例，检测单元可以安装在气体供应单元的气体流动路径上。

根据衬底处理装置的另一示例，检测单元安装在气体供应单元的外部，并且衬底处理装置可以还包括布置在检测单元和气体供应单元之间的检测单元阀。

根据衬底处理装置的另一示例，检测单元可以包括配置为检测气体流动的光学传感器。

根据衬底处理装置的另一示例，检测单元可以包括配置为诊断气体流动和气体成分的光谱分析装置。

根据衬底处理装置的另一示例，气体供应单元可以包括气体容器；连接到气体容器、检测单元和反应器的中间路径；以及连接在气体容器和中间路径之间的气体容器阀，其中衬底处理装置还可以包括连接在检测单元和中间路径之间的检测单元阀；以及连接在反应器和中间路径之间的反应器阀。

根据衬底处理装置的另一示例，检测单元可以配置为对气体容器阀执行第一检测操作。

根据衬底处理装置的另一示例，检测单元可以配置为在气体容器阀关闭、检测单元阀打开以及反应器阀关闭的状态下检测气体流动。

根据衬底处理装置的另一示例，衬底处理装置还可以包括连接在检测单元和检测单元阀之间的分流路径，并且残留在中间路径中的气体可以在检测单元的第一检测操作期间通过分流路径排出。

根据衬底处理装置的另一示例，第一检测操作可以在衬底处理装置的处理操作期间执行。

根据衬底处理装置的另一示例，第一检测操作可以在第一分批处理和第二分批处理之间的暂停期间执行。

根据衬底处理装置的另一示例，第一检测操作可以在一时间段期间执行，直到在同一分批处理内完成第一衬底的处理之后将第二衬底运送到反应器中。