[发明专利]衬底处理装置

权利要求书

1.一种衬底处理装置，包括：

至少一个反应器；

气体供应单元，其配置为向反应器供应气体；以及

检测单元，其连接到气体供应单元，

其中检测单元配置为检测气体供应单元中的气体流动。

2.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中，所述气体供应单元包括：

阀单元；

隔膜，其连接到阀单元；以及

气体流动路径，其配置为由隔膜打开和关闭。

3.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中，所述检测单元连接到所述气体流动路径的一端。

4.根据权利要求2所述的衬底处理装置，其中，所述检测单元安装在所述气体供应单元的气体流动路径上。

5.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中，

所述检测单元安装在所述气体供应单元的外部，并且

所述衬底处理装置还包括布置在检测单元和气体供应单元之间的检测单元阀。

6.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中，所述检测单元包括配置为检测气体流动的光学传感器。

7.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中，所述检测单元包括配置为诊断气体流动和气体成分的光谱分析装置。

8.根据权利要求1所述的衬底处理装置，其中，所述气体供应单元包括：

气体容器；

中间路径，其连接到气体容器、检测单元和反应器；以及

气体容器阀，其连接在气体容器和中间路径之间，

其中，所述衬底处理装置还包括：

检测单元阀，其连接在检测单元和中间路径之间；以及

反应器阀，其连接在反应器和中间路径之间。

9.根据权利要求8所述的衬底处理装置，其中，所述检测单元配置为对所述气体容器阀执行第一检测操作。

10.根据权利要求9所述的衬底处理装置，其中，所述检测单元配置为在所述气体容器阀关闭、所述检测单元阀打开以及所述反应器阀关闭的状态下检测气体流动。

11.根据权利要求10所述的衬底处理装置，还包括：

分流路径，其连接在所述检测单元和检测单元阀之间，并且

残留在所述中间路径中的气体在检测单元的第一检测操作期间通过分流路径排出。

12.根据权利要求9所述的衬底处理装置，其中，所述第一检测操作在所述衬底处理装置的处理操作期间执行。

13.根据权利要求12所述的衬底处理装置，其中，所述第一检测操作在第一分批处理和第二分批处理之间的暂停期间执行。

14.根据权利要求12所述的衬底处理装置，其中，所述第一检测操作在一时间段期间执行，直到在同一分批处理内完成第一衬底的处理之后将第二衬底运送到所述反应器中。

15.根据权利要求8所述的衬底处理装置，其中，所述气体供应单元包括：

第一路径；

第一阀，其连接在所述第一路径和气体容器之间；

第二阀，其配置为将气体从所述气体容器排放到第二路径；以及

第三阀，其连接在所述第一路径和第二路径之间，

其中，所述气体容器阀连接在所述第二路径和中间路径之间。

16.根据权利要求15所述的衬底处理装置，其中，所述检测单元配置为对所述第三阀执行第二检测操作。