[发明专利]一种基于骨架关键点重规划的Voronoi路径规划方法在审
| 申请号: | 202210049078.7 | 申请日: | 2022-01-17 |
| 公开(公告)号: | CN114485707A | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
| 发明(设计)人: | 蒋林;胡雨欣;张旭阳;万乐;邹汉城;明祥宇;黄韩宇 | 申请(专利权)人: | 武汉科技大学 |
| 主分类号: | G01C21/34 | 分类号: | G01C21/34 |
| 代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 薛玲 |
| 地址: | 430081 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 基于 骨架 关键 规划 voronoi 路径 方法 | ||
1.一种基于骨架关键点重规划的Voronoi路径规划方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1:机器人放置于室内环境角落中,机器人沿着室内环境边缘运动一周,将实时采集的点云数据通过gmapping建图算法构建环境栅格地图,将环境栅格地图依次进行二值化处理、腐蚀处理、膨胀处理,得到预处理后二值地图;
步骤2:将预处理后二值地图通过骨架提取方法得到多个预处理后二值地图上骨架像素点以及多条预处理后二值地图上骨架像素点路径轨迹;
步骤3:构建多个八邻域值判断条件模型,若预处理后二值地图上骨架像素点满足任意八邻域值判断条件模型则将预处理后二值地图上骨架像素点定义为预处理后二值地图上关键点;
步骤4:重复执行步骤3多次直至遍历每个预处理后二值地图上骨架像素点,得到多个预处理后二值地图上关键像素点;
步骤5:在多个预处理后二值地图上关键像素点中任意选择两个预处理后二值地图上关键像素点,若任意选择的两个预处理后二值地图上关键像素点属于同一条预处理后二值地图上骨架像素点路径轨迹,则将任意选择的两个预处理后二值地图上关键像素点配对为预处理后二值地图上关键路径;
步骤6:重复执行步骤5多次,直至遍历每个预处理后二值地图上关键像素点,得到多条预处理后二值地图上关键路径;
步骤7:在预处理后二值地图上筛选出每条预处理后二值地图上关键路径的起点像素坐标至每条预处理后二值地图上关键路径的终点像素坐标之间的所有像素点,以构建预处理后二值地图上每条关键路径的像素集合,若预处理后二值地图上每条关键路径的像素集合中任意一个像素点为黑色像素点,将该预处理后二值地图上关键路径定义为预处理后二值地图上失效路径,并跳转至步骤8;
步骤8:将预处理后二值地图上失效路径,在多条预处理后二值地图上骨架像素点路径轨迹中搜索预处理后二值地图上失效路径的起点像素坐标、预处理后二值地图上失效路径的终点像素坐标所对应的预处理后二值地图上骨架像素点路径轨迹,进一步定义为预处理后二值地图上骨架像素点失效路径轨迹,将预处理后二值地图上骨架像素点失效路径轨迹的起点像素坐标、预处理后二值地图上骨架像素点失效路径轨迹的终点像素坐标在预处理后二值地图上之间的线段像素均匀多等分得到多个等分点像素坐标,将多个等分点像素坐标映射至预处理后二值地图上骨架像素点失效路径轨迹上多个路径轨迹像素坐标点,计算每个路径轨迹像素坐标到预处理后二值地图上失效路径的直线像素坐标距离,在多个路径轨迹像素坐标点筛选出到预处理后二值地图上失效路径的直线像素坐标距离小于像素距离阈值的点作为多个失效路径中间像素点,通过预处理后二值地图上失效路径的起点像素坐标、多个失效路径中间像素点、预处理后二值地图上失效路径的终点像素坐标构建预处理后二值地图上失效路径轨迹点集合,若预处理后二值地图上失效路径轨迹点集合中存在相邻的两个预处理后二值地图上失效路径轨迹点之间存在黑色像素点,则调整像素距离阈值继续执行步骤8,直到重规划出所有的有效路径轨迹点;
步骤9:机器人将重规划出的所有的有效路径轨迹点通过A星算法进行路径规划,得出在预处理后二值地图上的起始像素坐标到在预处理后二值地图上的目标像素坐标之间的路径轨迹像素点集合,将在预处理后二值地图上的起始像素坐标到在预处理后二值地图上的目标像素坐标之间的路径轨迹像素点集合进行降梯度采样,得到在预处理后二值地图上的起始像素坐标到在预处理后二值地图上的目标像素坐标之间的平滑路径轨迹点集合,机器人根据在预处理后二值地图上的起始像素坐标到在预处理后二值地图上的目标像素坐标之间的平滑路径轨迹点集合进行导航运动。
2.根据权利要求1所述的基于骨架关键点重规划的Voronoi路径规划方法,其特征在于,步骤1所述预处理后二值地图:
data(i,j),i∈[1,M],j∈[1,N]
其中,data(i,j)表示预处理后二值地图中第i行第j列的像素,M表示预处理后二值地图的行数,N表示预处理后二值地图的列数。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉科技大学,未经武汉科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202210049078.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





